Gebraucht SHIBAURA µASH 8100 #9234515 zu verkaufen

Hersteller
SHIBAURA
Modell
µASH 8100
ID: 9234515
Wafergröße: 8"
System, 8" (2) Chambers Processing type: Vacuum Mass flow controller (MFC): Gas number / Gas name / MFC Size (SCCM) Gas 1 / O2 / 2000 Gas 2 / O2 / 2000 Gas 3 / CF4 / 20 Gas 4 / CF4 / 20 Gauge: MKS Baratron 626A Range: 1.333kPa NS FFU-222 System DAIHEN CMC-10 Tuning control DAIHEN SGP-10B RF Generator DAIHEN SGM-10A Matcher.
SHIBAURA µASH 8100 ist eine eigenständige, thermisch verbesserte Ätzausrüstung für präzise Wafer-Strukturierung. Dieses System ermöglicht überlegene Flexibilität und Leistung beim Ätzen von Mustern auf empfindlichen und empfindlichen Substraten. Es handelt sich um einen kompletten Inline-Bearbeitungsätzer, der entweder im eigenständigen oder im parallelen Stapelverarbeitungsmodus arbeitet. Die Einheit besteht aus einer an einem Rahmen angebrachten Hauptarbeitsplattform, einer den zu ätzenden Wafer enthaltenden Ätzkammer und einer separaten Kühlkammer. Die Hauptarbeitsplattform ist mit einzigartiger Bewegungserkennungstechnologie ausgestattet, um die erforderliche Mustergenauigkeit zu erreichen. Diese Technologie ermöglicht es der Plattform, Mikromuster zu erkennen und zu folgen und eine starre Genauigkeit für eine Vielzahl von Waferformen und -größen zu erhalten. Die rechteckige Ätzkammer ist für eine gleichmäßige Kühlung und Erwärmung während des Ätzprozesses ausgelegt und verfügt über eine spezielle Temperaturregelmaschine, um die Temperatur effizient zu regeln. Es ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung und gleichmäßiges Ätzen über die gesamte Waferoberfläche. Die Ätzkammer weist außerdem elektrostatische Stifte zur präzisen Ausrichtung von Wafern zur hochpräzisen Strukturierung auf. Μ ASH 8100 verfügt über ein computergestütztes Prozesskontrollwerkzeug zur genauen Überwachung und Steuerung des gesamten Ätzprozesses. Dieser Vermögenswert zeigt einen Doppelkanal-Hoempfindlichkeitsentdecker, um Muster mit der größeren Präzision und einer intuitiven grafischen Benutzerschnittstelle für die Bequemlichkeit der Operation zu entdecken. Die computergesteuerte Prozesssteuerung bietet dem Anwender zudem zusätzliche Optionen wie automatisierte Verarbeitung, Speicherung mehrerer Prozesse und die Möglichkeit, zwischen Prozessmenüoptionen zu wechseln. Die Kühlkammer von SHIBAURA µASH 8100 ist sicher abgedichtet und gewährleistet eine ausreichende Luftdichtigkeit für Kühlung und Belüftung. Das gesamte Kühlmodell wird von einem luftgekühlten Gebläse angetrieben, das an der Rückseite der Kühlkammer angebracht ist. Dieses Gebläse ermöglicht eine schnelle Kühlung oder Erwärmung der Wafer vor dem Ätzvorgang. Μ ASH 8100 ist eine All-in-One, benutzerfreundliche Ätzausrüstung, die für eine umfassende Substratmusterung konzipiert ist. Seine Temperaturregelung, Bewegungserkennung und computergestützte Prozesssteuerung bietet hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit beim Ätzen empfindlicher und empfindlicher Substrate. Seine Kühlkammer schützt Wafer vor Wärmeschäden und ein gleichmäßiges Ätzen über die gesamte Waferoberfläche ist gewährleistet. Es ist daher ideal für Anwendungen, bei denen hohe Präzision und Genauigkeit gefordert ist.
Es liegen noch keine Bewertungen vor