Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS / ORBOT WF-736 XS DUO #9412198 zu verkaufen

ID: 9412198
Weinlese: 2000
Patterned wafer inspection system 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/ORBOT WF-736 XS DUO ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es umfasst zwei Wafer-Inspektionsstationen, ein fortschrittliches computergestütztes Sichtsystem und eine leistungsstarke interferometrische Linseneinheit. Die Maschine ist mit einem fortschrittlichen optischen Profiler, einer Wafer-Inspektionsstation, einer SEMI-Selbsteinstellung, einem Hochgeschwindigkeits-Autofokus-Tool und einer anpassbaren Benutzeroberfläche ausgestattet. Die erste der beiden Wafer-Prüfstationen weist ein 8 "optisches Abtastfeld zur Erfassung der gesamten geprüften Waferoberfläche auf. AMAT WF-736 XS DUO verfügt über eine hochauflösende Zeilenkamera, die es dem Asset ermöglicht, mehrere Oberflächenmerkmale mit überlegener Genauigkeit zu betrachten. Die Zeilenkamera arbeitet in Verbindung mit dem mitgelieferten optischen Profiler, um qualitativ hochwertige 3D-Bilder von Defekten auf dem Wafer zu erhalten. Die zweite Wafer-Inspektionsstation ist mit einer hochauflösenden CCD-Kamera ausgestattet, um große Waferbilder mit großer Genauigkeit und Detailtreue aufzunehmen. Die CCD-Kamera dient zur Erfassung von Oberflächenfehlern von bis zu 0,2 μ m. Dieses Modell enthält auch eine SEMI-Funktion zur automatischen Einstellung und Bedienung. Zusammen mit den beiden Wafer-Inspektionsstationen verfügt ORBOT WF-736 XS DUO über eine fortschrittliche computergestützte Vision-Ausstattung mit einer Reihe anpassbarer Funktionen. Das computergestützte Sichtsystem bietet Möglichkeiten zur Musterauswahl, Konturanalyse und Rotationsanalyse. Das Gerät kann auch so konfiguriert werden, dass Warnungen generiert werden, wenn einer der Waferdefekte voreingestellte Parameter überschreitet. Darüber hinaus unterstützt die Vision Machine verschiedene Sicht- und Vergrößerungsebenen und ermöglicht eine klare Visualisierung des gesamten Wafers. WF-736 XS DUO ist mit einem leistungsstarken interferometrischen Objektiv ausgestattet, das hochpräzise Bildgebung mit ausgezeichneter Auflösung und Kontrast bietet. Die Linse fokussiert einen Laserfleck auf die Oberfläche des Wafers, um 3D-Bilder von Defekten mit hoher Geschwindigkeit zu erfassen. Das Autofokus-Modell der Anlage hält den fokussierten Fleck des Lasers jederzeit zentriert, so dass das Scannen von Wafern so genau und effizient wie möglich ist. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine anpassbare Benutzeroberfläche, mit der Bediener Funktionen anpassen, Systemeinstellungen anpassen und automatisierte Routinen für effiziente Inspektionen programmieren können. Die Benutzeroberfläche umfasst eine Echtzeitnavigation der untersuchten Waferoberfläche sowie eine Bibliothek von Wafer-Testbildern. ANGEWANDTE MATERIALIEN WF-736 XS DUO ist eines der fortschrittlichsten verfügbaren Masken- und Wafer-Inspektionssysteme. Es bietet hochpräzise Bildgebung und automatisierten Betrieb mit einer Reihe von anpassbaren Funktionen, so dass es eine ideale Lösung für Produktionsumgebungen.
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