Gebraucht KLA / TENCOR 2122 #293644919 zu verkaufen

ID: 293644919
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Wafer defect inspection system, 8" Slots: 2 / 710-658086-20 Rev E0 3 / 710-658232-20 Rev H1 4 / 710-659412-00 Rev C0 6 / 710-659412-00 Rev C0 7 / 710-655651-20 Rev 8 / 710-655651-20 Rev 9 / 710-658172-20 Rev JI Y Interpolator, Phase 3 10 / 710-658177-20 Rev F1 X Interpolator, Phase 3 11 / 710-658172-20 Rev J1 Y Interpolator, Phase 3 12 / 710-658177-20 Rev F1 X Interpolator, Phase 3 13 / w024039 15 / 710-658036-20 Rev C3 Boards (Aux card cage): Slots: 1 / 710-659465-20 3 / 710-650099-20 Rev L0 KLA DP Assy 6 / 710-650044-20 Rev D1 7 / 710-658363-20 Rev C0 1996 vintage.
KLA/TENCOR 2122 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine Kombination aus automatisierten und manuellen Prozessen verwendet, um Fehler und Materialschwankungen bei der Herstellung integrierter Schaltungskomponenten genau zu bewerten. Das KLA 2122-System hat die Fähigkeit, Schwankungen der Dünnschichtdicke, Maskenfehler, Wafertopographie und elektrische Eigenschaften des geprüften Materials zu messen, zu erkennen und zu analysieren. Es nutzt sowohl die optische als auch die elektrische Mikroskopie zur hochpräzisen und zuverlässigen Analyse des auf Submikron-Ebene untersuchten Materials und fördert so die Genauigkeit bei der Erkennung und Identifizierung von Fehlern. Mit seinem fortschrittlichen bildgebenden Modus und seinen spektroskopischen Fähigkeiten verfügt dieses Gerät über eine hohe Genauigkeit bei der Messung und Auswertung, mit einer Auflösungsgröße von 200 Nanometern und einer minimalen Empfindlichkeitsschwelle von etwa 1 Nanometer. Die Handhabungsflexibilität der Maschine wird durch ihren integrierten Manipulationsmechanismus ermöglicht, der für Wafer verschiedener Größen und Materialien von 3 bis 8 Zoll ausgelegt ist. Diese Funktion ermöglicht Variabilität im Ansatz und optimiert den Inspektionsprozess auf unterschiedliche Produktionsanforderungen und Produktlebenszyklen. Die Software-Engine von TENCOR 2122 ist sowohl für die ein- als auch mehrschichtige Dünnschichtbildgebung und -analyse konzipiert und liefert Ergebnisse mit einer sehr niedrigen Fehlerquote. In Kombination mit dem geometrischen Musteranalysemodus des Werkzeugs mit mehreren Wafern gewährleistet es eine hohe Auswertungsgenauigkeit. In Bezug auf die Geschwindigkeit bietet 2122 Asset mit seinem fortschrittlichen Bildverarbeitungsmodus einen schnelleren Durchsatz als Standarddurchsatz, was einen verringerten Materialverbrauch in der Produktionslinie ermöglicht. Dadurch reduziert das Modell die Produktionskosten und ist damit ein unschätzbares zeitsparendes Gerät. Abschließend ist KLA/TENCOR 2122 eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die für eine breite Palette integrierter Schaltungen geeignet ist. Es hat die Fähigkeit, Schwankungen der Dünnschichtdicke, Maskendefekte, Wafertopographie und elektrische Eigenschaften des geprüften Materials mit einer außergewöhnlich hohen Genauigkeit zu messen und zu erkennen. Sein schneller Bildgebungsmodus ermöglicht einen schnelleren Durchsatz als Standarddurchsatz, was zu einem verringerten Materialverbrauch und Produktionskosten führt. Das System ist ein wertvolles zeitsparendes Gerät und bietet eine kostengünstige Qualitätssicherung in der Produktion.
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