Gebraucht KLA / TENCOR 2135 #9144798 zu verkaufen

KLA / TENCOR 2135
ID: 9144798
Wafergröße: 8"
Wafer inspection system, 8" Missing parts: PCB.
KLA/TENCOR 2135 ist eine anspruchsvolle Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Basierend auf der neuesten Technologie ist dieses Tool in der Lage, eine Vielzahl von Funktionen auf Wafern und Masken genau zu messen und zu überprüfen. Das System verfügt über einen hochauflösenden CCD-Detektor mit 14,5 μ m Pixelgröße, so dass das Gerät auch sehr kleine Fehler erkennen kann. Um die Arbeitsbelastung des Bedieners zu reduzieren, ist die Maschine mit einem Hochgeschwindigkeits-Waferlader ausgestattet, der bis zu 20 Wafer gleichzeitig verarbeitet. Die UCK 2135 verwendet eine Laser-Transmitted-Imaging-Technologie (LTI), um mehrere Bilder desselben Wafers zu ermöglichen, wodurch die geometrischen Messungen eines bestimmten Merkmals genau berechnet werden können. Um die Messgenauigkeit weiter zu verbessern, enthält das Tool einen automatischen Fokussierungsalgorithmus, der alle Fokussierungs- oder Neigungsprobleme des Wafers kompensiert. Darüber hinaus ermöglicht ein integrierter Kantenerkennungsalgorithmus dem Asset die präzise Lokalisierung defekter Kanten, wodurch das Modell Fehler identifizieren und lokalisieren kann. Ebenso beeindruckend sind Analyse- und Post-Process-Funktionen der Geräte. Umfangreiche Analysefähigkeit, einschließlich Merkmalsmessungen, Kantenanalysen und Fehleranalysen, ermöglicht es den Anwendern, ihre Bilder schnell und genau zu untersuchen. Darüber hinaus vereinfacht der intelligente Berichtsgenerator die Datenspeicherung und Systemanalyse. Berichtvorlagen können auf unterschiedliche Kundenanforderungen zugeschnitten werden. Insgesamt bietet TENCOR 2135 zuverlässige Masken- und Wafermessung und Inspektion auf einem Niveau, das nur sehr wenige andere Systeme erreichen können. Mit seinen fortschrittlichen Technologien und der hohen Geschwindigkeit ermöglicht dieses Tool Ingenieuren und Wissenschaftlern, höchste Präzision in ihren Wafer- und Maskeninspektionsprozessen zu erreichen.
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