Gebraucht KLA / TENCOR 2371 #9313879 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2371 ist eine erstklassige Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine umfassende Analyse und Charakterisierung von Halbleitermustern ermöglicht. Das System kombiniert fortschrittliche Optik, Sensoren, Signalverarbeitungselektronik und Software, um Bilder mit hoher Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Flexibilität zu erzeugen. Es wird bei der Herstellung und Inspektion von hochpräzisen Halbleiter- und integrierten Schaltungsbauelementen sowie bei der Herstellung von Flachbildschirmen verwendet. Die UCK 2371 verwendet eine Kombination aus Lasern, bildgebenden Sensoren und optischen Komponenten, um Muster im zu untersuchenden Material abzutasten, zu erkennen und zu verarbeiten. Eine computergestützte Inspektionseinheit (CAI) erkennt Muster im gescannten Material und vergleicht diese mit zuvor gespeicherten Referenzmodellen. Die Maschine verwendet auch eine leistungsfähige Software, um Musterqualität, Defekte, Linienbreite und andere Parameter, die geprüft werden, abzubilden. Das Werkzeug verwendet ein hochauflösendes optisches Mikroskop, das zur Submikron-Bildgebung fähig ist. Es ist mit einem High-Speed-Galvanometer-basierten optischen Asset integriert und bietet horizontale und vertikale automatische Bühnenabtastfunktion. Das Modell bietet eine erweiterte Funktion Inspektion Fähigkeit, die die Erkennung von Sub-Mikron Größen von Defekten ermöglicht, und es kann auch Partikel und Rückstände identifizieren. TENCOR 2371 kann sowohl zerstörerische als auch zerstörungsfreie Prüfungen durchführen. Das Gerät ist gut ausgestattet mit verschiedenen Funktionen wie mehreren Mustererkennungsalgorithmen, automatisierter Mustererkennungssoftware, automatisierter Fehlererkennung und -klassifizierung, Nachbearbeitung zur Identifizierung systematischer Ausfälle durch Materialstress und einer leistungsstarken grafischen Anzeige. Darüber hinaus bietet die Programmiersoftware Benutzern die Möglichkeit, mehrere, benutzerdefinierte Inspektionen durchzuführen, einschließlich Farbkontrast, Maskenausrichtung, Scannen von Schuss zu Schuss, Überprüfung der Überlagerung, Neigung der Achse und Bildvergrößerung. 2371 ist für die Produktionsumgebung konzipiert und bietet eine umfassende Lösung für die Inspektion von Halbleitermasken und Wafern mit mehreren Pfaden. Es ist vollständig konfigurierbar, um die Anforderungen komplexer, spezialisierter Verfahren zu erfüllen, und es kann leicht mit anderen Geräten auf der Linie integriert werden. Insgesamt bietet das System KLA/TENCOR 2371 eine umfassende Lösung für die Inspektion von Halbleitermasken und Wafern mit mehreren Pfaden. Mit seiner leistungsstarken Optik, Sensoren, Signalverarbeitungselektronik und Software bietet es Anwendern die Flexibilität, präzise und wiederholbare Ergebnisse für ihre Masken- und Waferinspektionsaufgaben zu erzielen. Die Einheit ist in allen Arten von Produktions- und Inspektionsumgebungen anwendbar und kann dazu beitragen, Zeit, Kosten und Mängel zu reduzieren.