Gebraucht KLA / TENCOR 238 #293595764 zu verkaufen

KLA/TENCOR 238 ist ein fortschrittliches Halbleitermasken- und Wafer-Inspektionsgerät, das zur Inspektion von Bauelementen wie integrierten Schaltungen (ICs) und anderen Bauelementen zur Herstellung elektronischer Bauelemente entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um Fehler in der lithographischen Maske und in den gedruckten Wafermustern zu erkennen und zu untersuchen. KLA 238 verwendet eine hochmoderne Mustererkennungseinheit, um spezifische Markierungen zu identifizieren und ein hochauflösendes Bild bereitzustellen, das zur Erkennung von Beugungen und anderen sichtbaren Merkmalen verwendet werden kann, mit denen die Genauigkeit einer Maske oder eines Wafermusters analysiert werden kann. Es verfügt auch über eine breite Palette von hochempfindlichen Filtern, um Rauschen und Störungen aus der bildgebenden Umgebung zu beseitigen. Die Maschine verwendet fortschrittliche optische Technologie, um zuverlässige Bilder des Maskenmusters oder des Wafermusters mit einer hohen Auflösung zu liefern. Das Werkzeug bietet auch einen Hochleistungsautofokusmechanismus an, der kleinste Einzelheiten im Feld des imager der Ansicht entdecken kann. Die Anlage nutzt eine Vielzahl von Lichtquellen, um Daten zu erfassen, einschließlich UV, blaue und grüne LEDs sowie Laser. Diese verschiedenen Lichtquellen bieten eine erweiterte Palette von Kontrastmöglichkeiten, so dass das Modell subtile Masken- oder Waferdefekte identifizieren kann. TENCOR 238 verfügt auch über Mehrfeldbild- und Vergrößerungsfunktionen, so dass bis zu 20 verschiedene Sichtfelder gleichzeitig inspiziert werden können. Das Gerät hat auch die Möglichkeit, eine breite Palette von analysierten Bildern zu speichern, so dass Benutzer die Bilder zur Archivierung oder zukünftigen Referenz anzeigen, speichern und archivieren können. Darüber hinaus verfügt 238 über eine Reihe von Funktionen, die genaue Ergebnisse gewährleisten. Ein solches Merkmal ist ein verbesserter Laser-Fokussiermechanismus, der es dem System ermöglicht, kleine Defekte in den Masken- und Wafermustern genau zu identifizieren. Diese Funktion hilft auch, Fehlalarme zu reduzieren und die Kosten für genaue Ergebnisse zu reduzieren. Das Gerät hat auch die Flexibilität, die Menge und Art des Lichtes für den bildgebenden Prozess verwendet anpassen, so dass verbesserte Ergebnisse mit einer Vielzahl von bildgebenden Bedingungen. Schließlich wurde die Maschine mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen konzipiert, wodurch das Potenzial für Beschädigungen oder Schäden an Bedienern und Geräten reduziert wurde. Alle internen Linsen sind selbstreinigend, so dass sie einfacher zu bedienen und weniger wahrscheinlich Probleme verursachen. Darüber hinaus wurde das Tool entwickelt, um Probleme mit versehentlichen Verbrennungen oder Hot Spots zu minimieren und das Potenzial für Schäden an Benutzern oder Geräten weiter zu verringern. Alles in allem ist KLA/TENCOR 238 eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die präzise Bilder mit verbesserter Empfindlichkeit und Genauigkeit bereitstellt. Das Modell eignet sich gut für Qualitätssicherung und Produktionsabläufe und bietet schnell und präzise hochauflösende Bilder von Masken und Wafern. Die fortschrittlichen Funktionen und Sicherheitsmaßnahmen machen es zu einem idealen Werkzeug für die Inspektion von High-End-Technologie in Halbleiterbauelementen.