Gebraucht RIBER 49 #9395706 zu verkaufen

Hersteller
RIBER
Modell
49
ID: 9395706
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
RIBER 49 ist eine Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) von RIBER SAS. MBE ist ein Verfahren zur Herstellung hochwertiger einkristalliner Dünnschichten in kontrollierter Atmosphäre auf mikroskopischer Ebene. Es wird in der Halbleiter- und Optoelektronik-Industrie zur Herstellung verschiedener Materialien wie Silizium, Galliumarsenid, Galliumnitrid und Indiumphosphid eingesetzt. Zusätzlich können 49 zur Herstellung von Graphen, Übergangsmetalloxiden und Quantenpunkten verwendet werden. RIBER 49 besteht aus vier Hauptkomponenten: einer Ultra High Vacuum (UHV) -Kammer, einer Ultra High Vacuum Station (UHVS), einem Elektronenstrahlverdampfer und einem Wachstumsmonitor. Die UHV-Kammer ist für den Betrieb mit einem Vakuumdruck von 1x10-9 Torr ausgelegt. Dies bietet eine sehr saubere Umgebung für die Bildung von Einkristallen und beseitigt Kontaminationen aus Luft und anderen Molekülen in der Atmosphäre. Das UHVS ist die Hauptsteuereinheit, die alle Systemkomponenten beherbergt und einen einfachen Zugang zur Kammer für die Probenmanipulation bietet. Der Elektronenstrahlverdampfer dient zur Steuerung der Abscheiderate des Quellmaterials auf das Substrat und zur Reduzierung der Off-Axis-Diffusion. Schließlich liefert der Wachstumsmonitor Echtzeitdaten über den Kristallwachstumsprozess, wie Druck, Bewegung und Temperatur der UHV-Kammer. 49 ist im Vergleich zu anderen MBE-Systemen sehr effizient und kostengünstig, da es in einem Bruchteil der Zeit hochwertige Dünnschichten herstellen kann. Darüber hinaus bietet der UHVS eine genaue Druckregelung und Temperaturregelung innerhalb der UHV-Kammer und bietet gleichzeitig eine leistungsstarke Anzeige und zuverlässige Steuereinheit für den Benutzer. RIBER 49 kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll verarbeiten und kann mehrere Konfigurations- und Steuerungskonstruktionen aufnehmen. Die Maschine ist sehr anpassungsfähig und kann zur Herstellung einer breiten Palette von Materialien und Strukturen verwendet werden. Schließlich bietet die integrierte Software von 49 eine einfach zu bedienende Schnittstelle, mit der Benutzer Daten des Kristallwachstumsprozesses in Echtzeit überwachen können. Abschließend ist RIBER 49 ein effizientes und kostengünstiges Werkzeug zur Herstellung einkristalliner Dünnschichten in kontrollierter Umgebung. Es eignet sich gut für die Halbleiter- und Optoelektronik-Industrie und kann zur Herstellung unterschiedlichster Materialien eingesetzt werden. Darüber hinaus bietet die integrierte Software eine intuitive Benutzeroberfläche mit Echtzeitdaten, die eine präzise und genaue Kontrolle über den gesamten Prozess ermöglicht.
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