Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-2000 #9277248 zu verkaufen

ID: 9277248
Wafergröße: 8"
(4) Coater / (4) Developer systems, 8" Resist temperature system Resist Pump Wafer shape: SNNF Wafer cassette: 8" PP MIRAIAL (2) Process blocks (2) Coater heads (2) Barc coater heads (4) Develop heads (2) Adhesion chambers (10) Cooling plates (12) Rapid hot plates (3) Hot plates (1) EEW (1) EEFT (1) IFB (1) Source bottle cabinet (1) Chemical box (HMDS/Solvent/NMDW) (1) Controller cabinet (1) Power box (1) Handling unit controller (1) Carrier station (6) Nozzle Cup: Top cup material: PP Middle cup material: PP Bottom cup material: PPS Spin chuck: Material: Peek Back rinse flow meter with flow sensor Mist nozzle flow meter with flow sensor Edge cleaner flow meter with sensor With VPS+ option Solvent solution supply Drain central Barc Nozzle slit scan nozzle Develop solution supply Central supply Developer Cup PVC Spin chuck PEEK Develop nozzle flow meter with sensor Develop nozzle wash meter with sensor Rinse nozzle flow meter with sensor Back rinse flow meter with sensor Develop temperature System Control for 1 line x 2 Drain central Adhesion Method vapor prime by N2 bubbling Hot plate 60-150 deg by 0.1 deg pitch HMDS solution supply central supply Hot plate Method proximity bake with ceramic ball Hot plate 50-180 deg by 0.1 deg pitch Cooling plate Rapid hot plate.
DNS/DAINIPPON SK-2000 ist eine digitale Photoresist-Ausrüstung, die Laser und ein neuartiges optisches System verwendet, um die Genauigkeit von Belichtungsmustern zu verbessern und sicherzustellen, dass Funktionen genau auf Substraten mit Merkmalsgrößen von wenigen hundert Nanometern reproduziert werden können. DNS SK2000 verwendet einen gepulsten Laserstrahl, der auf eine Punktgröße von 5 um auf dem Substrat fokussiert und auf einem x-y Galvanometer-Scanner montiert ist. Die Pulsbreite ist von 2 bis 12ns programmierbar und die Energie ist von 50mJ bis 1J programmierbar. Der Laser ist auf einem vertikalen Scanner montiert, der mit einem präzisen x-y-Galvanometer-Scanner verbunden ist. Laser und Scanner werden synchronisiert, um genaue Belichtungsmuster auf dem Substrat zu erzeugen. Das Belichtungsmuster wird dann durch die Benutzeroberfläche definiert, die das Zeichnen von Belichtungsmustern auf dem Substrat ermöglicht. DAINIPPON SK 2000 verwendet auch eine proprietäre optische Einheit, die das Belichtungsmuster mit der Schichtdicke des Substrats kombiniert. Dies ermöglicht genaue Belichtungsmuster auf Substraten mit Merkmalsgrößen von wenigen hundert Nanometern. Zusätzlich können die Belichtungsmuster für ein bestimmtes Substrat optimiert werden, was eine höhere Genauigkeit und Präzision ermöglicht. Neben seinen Laser- und optischen Systemen ist DNS/DAINIPPON SK 2000 mit einer Temperaturregeleinheit ausgestattet, die den Einsatz temperaturempfindlicher Substrate im Belichtungsprozess ermöglicht. Dies ermöglicht eine höhere Widerstands- und Wärmetoleranz des belichteten Materials. Neben seiner Präzision und Genauigkeit bietet DNS SK-2000 eine breite Palette von Belichtungsmustern, die verwendet werden können. Es ist für die Verwendung in einer Vielzahl von Verfahren, einschließlich Photolithographie, Abscheidungstechniken wie chemische Dampfabscheidung und Trockenätzen. Sein breites Spektrum an Belichtungsmustern ermöglicht einen verbesserten Durchsatz und kürzere Prozesszeiten. DNS SK 2000 ist eine fortschrittliche Fotolackmaschine. Es nutzt mehrere einzigartige Funktionen, darunter einen gepulsten Laser, ein modernes optisches Werkzeug, einen Präzisionsscanner und eine Temperaturkontrolleinheit. Diese Eigenschaften ermöglichen die genaue und präzise Reproduktion von Belichtungsmustern auf Substraten mit Merkmalsgrößen von wenigen hundert Nanometern. Darüber hinaus ermöglicht die große Auswahl an Belichtungsmustern einen schnelleren Durchsatz und kürzere Verarbeitungszeiten. Damit ist DNS/DAINIPPON SK2000 eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen in der Photolithographie, Abscheidungstechniken und Trockenätzen.
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