Gebraucht JAS JAS-591TM #9360825 zu verkaufen

JAS JAS-591TM Photoresist Equipment ist ein spezialisiertes Instrument für die Entwicklung und Charakterisierung von Photoresist-Materialien, die in der industriellen Herstellung von Wafer-Level-Herstellung verwendet werden. Das System ist um eine Hochgeschwindigkeits-Roboterarmeinheit zentriert, die das präzise Aufbringen verschiedener Photolackmaterialien auf eine Substratscheibenoberfläche ermöglicht. Dieser Arm ist mit einer hochgenauen Bühnenbaugruppe und einer Mikropositionierungsplattform ausgestattet, die in allen drei Dimensionen gesteuert und eingestellt werden kann. Neben dem Roboterarm besteht JAS-591TM auch aus einer Reihe weiterer Komponenten, darunter ein Strahlgenerator, ein Laser hoher Intensität, Elektroden und eine Vakuumquelle. Der Strahlgenerator arbeitet zusammen mit dem Laser und den Elektroden, um vorbestimmte Muster auf dem Substratwafer auszuätzen. Der Laser ist in seiner Intensität einstellbar und ermöglicht eine präzise Steuerung der Entwicklung von Photolack. Die Vakuumquelle dient derweil dazu, während der Fotowiderstandsentwicklung eine konstante Niederdruckumgebung in der Kammer bereitzustellen. Die Maschine wird auch mit einer Reihe von Diagnose- und Anzeigeinstrumenten geliefert, darunter ein Temperaturmonitor, ein Oszilloskop, eine Heizung und verschiedene andere Sensoren. Der Temperaturmonitor sorgt dafür, dass das Photolackmaterial während des Entwicklungsprozesses eine optimale Viskosität beibehält, während das Oszilloskop ein Bild der Photolackmuster misst und anzeigt, wie sie auf dem Substratwafer erzeugt werden. Die Heizung hält die Kammer unterdessen während des gesamten Photoresist-Entwicklungsprozesses auf einer gleichmäßigen Temperatur. Schließlich nutzt das Tool eine digitale Schnittstelle, um sowohl eine einfache als auch eine komplexe Steuerung des Photolackentwicklungsprozesses zu ermöglichen. Diese Schnittstelle ermöglicht es Benutzern, verschiedene Parameter wie Laserleistung, Mustergröße und Schichtdicke auszuwählen. Diese Parameter können individuell eingestellt werden, um komplizierte Photolackmuster mit hoher Präzision und Kontrolle zu erzeugen. Kurz gesagt, JAS JAS-591TM Photoresist Asset ist ein unschätzbares Werkzeug für die industrielle Herstellung von Fertigungsmaterialien auf Waferebene. Die Kombination aus hochpräzisem Roboterarm, einstellbarem Laser und digitaler Schnittstelle sorgt dafür, dass Photolackmuster mit großer Präzision und Genauigkeit entwickelt werden können. Zusammen machen diese Komponenten es zu einem äußerst vielseitigen und effektiven Werkzeug bei der Erstellung von integrierten Schaltungen und anderen Mikroherstellungsprozessen.