Gebraucht OPTORUN NSC-15 #293622610 zu verkaufen

OPTORUN NSC-15 ist eine Photoresist-Anlage auf Basis des Nanoimprint-Lithographieverfahrens. Es soll die Bildung von Nanometermerkmalen auf Substraten wie Halbleitern, Metallen und Glas ermöglichen. Das System verwendet einen thermischen Abdruckregler und ein Flüssigkeitsmustermodul. Mit Hilfe von nanoskaligen Abdruckschablonen ermöglicht es die Replikation von Nanostrukturen, die mit verschiedenen Materialien kompatibel sind. Der Prozess beginnt mit einer Abdruckschablone, die die nanoskaligen Merkmale enthält, die auf das Substratmaterial übertragen werden müssen. Diese Schablone ist an einem thermischen Abdruckkopf angebracht. Beim Aufheizen schmilzt der Abdruckkopf das Photolackmaterial und prägt die Nanostrukturen auf das Substrat. Der Photolack wird dann ultraviolettem Licht ausgesetzt. Dies hilft bei der Entfernung unerwünschter Partikel aus dem Photolack, wodurch die gewünschten Merkmale erhalten bleiben. Nachdem der Photolack erhitzt und abgekühlt ist, härtet er aus. Anschließend wird der gesamte Vorgang solange wiederholt, bis die gewünschten Ergebnisse erzielt werden. Beim Betrieb mit dem OPTRUN NSC-15 Gerät können Anwender den Abdruckkopf mit seiner verstellbaren Heizmaschine auf Präzision steuern. Das Werkzeug eignet sich gut für eine präzise Nanofabrikation. Es ist auch kompatibel mit einer breiten Palette von Materialien aufgrund der Fähigkeit, sowohl dauerhafte als auch temporäre Dichtungen zu verwenden. Darüber hinaus ist das Setup vielseitig einsetzbar, da es zur Herstellung verschiedener Geometrien wie Linien, Punkte, Nuten und Hohlräume verwendet werden kann. Insgesamt ist das OPTRUN OPTORUN NSC-15 Photoresist Asset ein effizienter Weg zur präzisen Nanostrukturierung. Es ermöglicht eine sichere, schnelle und kostengünstige Möglichkeit, nanoskalige Funktionen herzustellen, die für verschiedene Anwendungen verwendet werden können.