Gebraucht SEMITOOL 2300S #151756 zu verkaufen

SEMITOOL 2300S
ID: 151756
Wafergröße: Up to 12"
Spin rinse dryer, up to 12".
SEMITOOL 2300S ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von mikroelektronischen Geräten. Es dient zur Beschichtung und Entwicklung von Photolack auf mikroelektronischen Substraten. Das System ist hochautomatisiert und benutzerfreundlich und bietet präzise und wiederholbare Filmleistung mit seinen fortschrittlichen Funktionen. 2300S verwendet ein Tieftemperatur-Backverfahren, das eine hervorragende Kompatibilität mit empfindlichen Substraten bietet und eine automatisierte Filmspurkonfiguration aufweist. Seine automatisierte Folienbahn ist einstellbar, um eine Vielzahl von Substratgrößen aufzunehmen. Ein Satz speziell entwickelter, hochwertiger Resistpumpen ermöglicht mit jedem Impuls das präzise Aufbringen des Resistmaterials auf das Substrat. Zusätzlich weisen die Druckkammer- und Düsenanordnungen von SEMITOOL 2300S eine einstellbare Höhen- und Winkeleinstellung auf, die präzise und wiederholbare Schichtdicken ermöglicht. Die Photolackeinheit verfügt zudem über eine hochpräzise optische Maschine mit einem kurzwelligen Laser, der eine präzise und wiederholbare Auflösung der Funktionen ermöglicht. Dieses Tool verwendet einen proprietären fortschrittlichen Algorithmus, um die Wirkung von Staubpartikeln zu beseitigen und eine präzise Fokuskontrolle zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht sein bordseitiger Zweigang-Rührmotor eine präzise Viskositätsregelung und Beschichtungsgleichförmigkeit. Um ein präzises und wiederholbares Filmprofil zu gewährleisten, verwendet 2300S eine fortschrittliche berührungslose Profilometrie, die das Oberflächenprofil des Substrats genau misst. Darüber hinaus dienen seine ausgasungsarmen Materialien und sublimationssicheren Modelle dem Schutz empfindlicher Substrate und der Gewährleistung von Qualitätsergebnissen. SEMITOOL 2300S Photoresist Asset ist gut geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen, die Präzisionsprofil, Folieneinheitlichkeit, feine Merkmalskontrolle und ausgasende Materialien erfordern. Die automatisierten Funktionen des Modells ermöglichen eine einheitliche und konsistente Filmleistung für jedes Substrat und die fortschrittliche optische Ausrüstung sorgt für eine präzise und wiederholbare Auflösung der Funktionen. Darüber hinaus sorgt sein Tieftemperatur-Backverfahren für die Kompatibilität mit empfindlichen Substraten und ist damit eine ideale Wahl für die Herstellung mikroelektronischer Bauelemente.
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