Gebraucht SEMITOOL 260F #9229806 zu verkaufen

SEMITOOL 260F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
260F
ID: 9229806
Wafergröße: 5"
Spin Rinse Dryers (SRD), 5".
SEMITOOL 260F ist eine vollautomatische Trockenätzanlage zum Ätzen von Masken-/Photoresistschichten auf Halbleiterwafern. Die Maschine ermöglicht die präzise Steuerung und Verwaltung mehrerer Ätzparameter für das Hochleistungsätzen verschiedener Materialien wie Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Polysilizium und Aluminium. 260F ist mit einem Spin-Etch-Futter ausgestattet, das berührungslos niederfrequentes Sputtern verwendet, um Oberflächen mit höchster Präzision zu ätzen. Dieses kontrollierte Spinnen hilft, das Auftreten von Schmutz zu reduzieren und gleichzeitig ein gleichmäßiges Ätzprofil über die gesamte Waferoberfläche aufrechtzuerhalten. Zusätzlich ist ein Wafer-Überwachungssystem in die Maschine integriert, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Ätzprozesses zu gewährleisten. Die Maschine verwendet eine Zweimassengasfördereinheit, bestehend aus einem Hochdruck-Direkteinspritzventil und einem Niederdruckeinspritzventil. Erstere wird verwendet, um saubere, trockene Ätzgase mit hohen Durchflussraten bereitzustellen, während letztere höhere Konzentrationen von Ätzgasen bereitstellen können, was effizientere Ätzungen ermöglicht. Die Doppelmassenmaschine ist in der Lage, verschiedene Ätzprozesse wie Nassätzen, Tiefätzen, Passivieren und Gateätzen bereitzustellen. Darüber hinaus verfügt SEMITOOL 260F über integrierte Tools zur Prozesssteuerung und -optimierung, wie Prozessüberwachung und automatisierte Rezeptsteuerung. Die automatisierte Rezeptsteuerungsfunktion ermöglicht vollständig anpassbare Rezepte, die Optimierungen von Ätzparametern ermöglichen, die bestimmten Gerätespezifikationen entsprechen. Die Prozessüberwachung trägt dazu bei, die Wiederholbarkeit des Prozesses zu gewährleisten, indem kritische Ätzparameter wie Temperatur, Prozesszeit, Druck und Gasdurchfluss überwacht werden. Insgesamt ist 260F ein ideales Photoresist-Ätzwerkzeug für hochpräzises Ätzen verschiedener Materialien, die in Halbleiteranwendungen verwendet werden. Es bietet einen robusten und wiederholbaren Ätzprozess mit präziser Steuerung mehrerer Ätzparameter wie Temperatur, Druck, Gasdurchfluss und Prozesszeit. Die integrierten Tools zur Prozessüberwachung und -optimierung bieten die notwendigen Werkzeuge zur Sicherstellung der Prozesswiederholbarkeit und -qualität.
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