Gebraucht SEMITOOL 280S #151758 zu verkaufen

SEMITOOL 280S
Hersteller
SEMITOOL
Modell
280S
ID: 151758
Wafergröße: Up to 8"
Spin rinse dryer, up to 8".
SEMITOOL 280S ist ein Photoresist-Gerät, das verwendet wird, um dünne Filme aus Photoresist auf ein Substrat zu entwickeln und aufzutragen. Es ist ein Hochleistungssystem, das die anspruchsvollsten photolithographischen Anforderungen erfüllt. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Umlaufschale, einem spinnenden Nasstisch und einem LCD-Monitor sowie zwei Stufen zur Substratpositionierung. Darüber hinaus umfasst 280S mehrere Softwaremodule zur Optimierung der Fotolackverarbeitung und zur Durchführung detaillierter Analysen. Die als Nasstisch dienende Umlaufschale kann bis zu vier Substratkassetten gleichzeitig aufnehmen, was eine effiziente Verarbeitung ermöglicht. Die Schale hält und spinnt sanft jedes Substrat und unterstützt das gleichmäßige Aufbringen des Photolackfilms. Der LCD-Monitor bietet eine benutzerfreundliche Oberfläche, mit der die Maschine gesteuert werden kann und eine präzise Einstellung von Resist-Anwendungs- und Entwicklungsparametern ermöglicht. Darüber hinaus bietet der Monitor eine Vielzahl von analytischen Daten und visuelles Tracking des flüssigen Fotolacks zur Qualitätskontrolle. Darüber hinaus ermöglichen die beiden Stufen zur Substratpositionierung eine präzise Ausrichtung und Platzierung von Bauteilen. Die Stufen können innerhalb einer dreidimensionalen Ebene eingestellt werden und verwenden hochauflösende Sensoren, um eine genaue Platzierung zu gewährleisten. SEMITOOL 280S umfasst auch verschiedene Softwaremodule, um Ergebnisse zu maximieren und Konsistenz zu gewährleisten. PathTracer ist ein Programm, das verwendet werden kann, um optimierte Chargen von Filmen zu erstellen, während QFlo eine Analyse-Software-Suite ist, die entwickelt wurde, um die Eigenschaften von Photoresists im Laufe der Zeit zu messen und zu überwachen. Das ECDB-Modul ermöglicht eine detaillierte Datenbankverwaltung, einschließlich Performance-Tracking und Anpassung der Einstellungen für bestimmte Substrate. Das Photoresist-Werkzeug ist mit den notwendigen Funktionen ausgestattet, um präzise und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen, so dass es für viele Anwendungen geeignet ist, einschließlich MEMs, LED und IoT-Geräteherstellung. Darüber hinaus ist es ein kompaktes und einfach zu bedienendes Asset, was es zu einer idealen Wahl für Labor-, Qualitätskontroll- und Forschungseinstellungen macht.
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