Gebraucht SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP #9178866 zu verkaufen

SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP Photoresist Equipment ist eine vollautomatisierte und integrierte Chemie- und Verarbeitungseinheit für den Einsatz von Photoresist-Materialien. Es ist in der Lage, bis zu 5 115mm Wafer pro Sitzung zu verarbeiten. Die Maschine ist mit einer Reihe von unabhängigen und interprogrammierbaren Prozesskammern ausgestattet, darunter ein externer chemischer Versorgungsschrank, eine benutzergesteuerte programmierbare atmosphärische Steuerung, ein HF-Generator, eine PR-Sprühstation und ein schnelles thermisches Härtungssystem, die alle zusammen installiert sind, um eine voll funktionsfähige Verarbeitungseinheit zu schaffen. Der Photolackprozess beginnt mit der Vorbehandlungskammer, die zur Vorbehandlung der Oberfläche der Wafer eingerichtet ist. Dabei werden die Wafer zur Entfernung eventuell vorhandener Partikel, Oxide und/oder Verunreinigungen vor dem Aufbringen des Resistmaterials gereinigt. Die Vorbehandlungskammer bietet eine chemische Kontrolle und präzise Lieferung einer Vielzahl von Reinigungslösungen und Ätzmitteln, um eine maximale Haftung des Photolacks zu erreichen, je nach Substrattyp. Anschließend wird der Photolack in der PR-Sprühstation auf die Wafer aufgesprüht. Die Sprühstation verfügt über einen motorisierten Präzisionssprüher, einen HF-Generator mit variabler Frequenz und eine beheizte Lufttrocknungskammer, die mit externen Heizgeräten zur besseren Steuerung der Trockenzeiten des Resistfilms koppeln kann. Der HF-Generator wird verwendet, um die Abscheidung des Photolacks auf Gleichmäßigkeit zu steuern. Nach dem Aufbringen und Trocknen des Photolacks werden die Wafer in die Schnellhärtungseinheit (RTC) überführt. Diese Einheit ist mit einer integrierten Heizeinheit und einer einzigen Kammer mit einstellbarem Taktprogramm zur präzisen Steuerung der Aushärtungsprozesse ausgestattet. Die RTC-Maschine arbeitet, um die Temperatur des Wafers pro Anwendung genau zu regulieren. Nach Beendigung des Aushärtungsprozesses werden die Wafer in eine Nachhärtekammer gebracht, die bei Bedarf zusätzliche Heiz- oder Trocknungszyklen zur Erhöhung der Filmintegrität bereitstellen kann. 430S-5-1-ML-WP Photoresist Tool bietet intuitive und benutzerfreundliche Architektur mit klaren Schritt-für-Schritt-Anleitungen für jeden Schritt des Photoresist-Prozesses. Die Integration unabhängiger Prozesskammern und die präzise Lieferung von Reinigungschemikalien, Resistfolien und Aushärtungszeiten machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für High-End-Anwendungen in der Photolithographie.