Gebraucht SVG 86 #9163180 zu verkaufen

Hersteller
SVG
Modell
86
ID: 9163180
Wafergröße: 6"
Double coater, 6" Semi flat wafers Cassettes: Fluor ware Coater wafer direction: Left to right Coater with MYKROLIS IntelliGen 2 Pump Coater exhaust with auto-damper Hardware: SMC Digital vacuum sensor Coater bottom EBR with flow meter Does not include: Coater with catch-cup-rinse Thru-track interface to pe micralign riro MICROBAR chemical cabinet CTD CTR Vacuum bake wafer prime Coater spinner with servo pack Coater dispense line with flow meter Coater top EBR with flow meter Coater catch-cup-rinse with flow meter ADS Resist reservoir system No automation Power supply: 415 VAC, 3 Phase 2010 vintage.
SVG 86 ist eine Photolackausrüstung, die von der Silicon Valley Group (SVG) für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein einzelner, fließfähiger Resist, der ausgezeichnete Druckergebnisse mit zuverlässiger Kantenauflösung und Belichtungsbreite liefert. Das System besteht aus einem Photolackmaterial, einer Bildmaske, einer Photolackentwicklerlösung und einer chemischen Behandlungseinheit. Im Einsatz wird das Photolackmaterial auf die Oberfläche eines Halbleiterwafers aufgebracht und ultraviolettem (UV) Licht aus der Bildmaske ausgesetzt. Das Licht bewirkt, dass sich bestimmte Teile des Resists auflösen, während andere intakt bleiben. Die übrigen Teile bilden das Muster, das auf den Wafer übertragen wird. 86 ist für hochauflösende Bilder mit gleichbleibender Materialdicke und gleichmäßiger Kantenauflösung ausgelegt. Es hat eine geringe Lichtempfindlichkeit, was bedeutet, dass es einem Licht mit hoher Intensität ausgesetzt werden kann und gleichzeitig ein sauberes, präzises Bild erzeugt. Der Resist hat auch ausgezeichnete chemische Beständigkeitseigenschaften und ist gegen Bleichen, Korrosion und Ätzen beständig. SVG 86 wird in vielen verschiedenen Halbleiterherstellungsverfahren eingesetzt. Es wird verwendet, um eine Reihe von Komponenten wie mikroelektromechanische Systeme (MEMS), Mikrocontroller und integrierte Chipsätze zu erstellen. Es wird auch bei der Herstellung von Fotowiderständen, Dünnschichttransistoren und Leuchtdioden (LEDs) eingesetzt. Darüber hinaus wird es verwendet, um Solarzellen und Photovoltaikzellen zu strukturieren. Die Maschine eignet sich gut für die volumenstarke und hochpräzise Fertigung. Es wird häufig bei der Herstellung von fortschrittlichen Materialien wie Silizium, Germanium, Verbindungshalbleiter und Nanostrukturen verwendet. Das Werkzeug ist einfach zu bedienen und erfordert ein minimales Bedienertraining. 86 ist als kostengünstige Photolacklösung konzipiert, die für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen geeignet ist. Es ist sehr zuverlässig, mit niedrigen Defektraten und hohen Ausbeuten. Dies macht es ideal für die Serienproduktion und erhöht die Zuverlässigkeit und Leistung des fertigen Geräts.
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