Gebraucht SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C #9244973 zu verkaufen

SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C
ID: 9244973
Systems.
SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C Photoresist Equipment ist ein modernes System, das zur Erstellung hochwertiger Photomasken für die Mikrochip- und Photonengeräteindustrie verwendet wird. Es bietet Anwendern maximale Produktivität, Flexibilität und Genauigkeit bei der Durchführung von Photomasken-Verarbeitungsaufgaben. SVS MSX-1000C verwendet eine 4-Strahl-Maskenausrichteinheit, bestehend aus Laserprojektoren und Sensorkameras, zur automatischen Ausrichtung von Schablonenmasken auf den Substratwafer. Dies gewährleistet genaue Reproduktionsergebnisse und erhöht den Durchsatz, der sonst bei manueller Ausrichtung nicht erreichbar ist. Zusätzlich werden an den Maskenausrichtern fortschrittliche Sichtsysteme installiert, die eine automatische Ausrichtung und Identifizierung der Substratplatte sowie automatisch korrigierte Maskenpositionsfehler ermöglichen. SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C verfügt über Belichtungen mit variablem Winkel und Reduzierung/Vergrößerung sowie eine integrierte Vorbelichtungskorrekturmaschine. Weitere Technologien dieses Tools sind die automatische Wafer-Positionierungserkennung (AWPD) und die Kantenerkennung (ED). Diese Technologien ermöglichen eine höhere Genauigkeit in der Produktion, konsistentere Batch-to-Batch-Ergebnisse und die Fähigkeit, Masken mit höherer Auflösung und besserer Kontrolle über Linienbreiten zu produzieren. Darüber hinaus umfasst MSX-1000C fortschrittliche Reinigungs- und Trocknungstechnologien, die eine minimale Verschmutzung oder Verzerrung der Kontaktfläche des Wafers verursachen. Darüber hinaus tragen temperatur- und feuchtigkeitsgesteuerte Umgebungen dazu bei, die Verzerrung und thermische Beanspruchung der Maske und des Substrats während des Herstellungsprozesses zu reduzieren. SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C kann eine breite Palette von Materialien akzeptieren, einschließlich Polysilizium, Siliziumnitrid, Metalle und Glas. Es kann auch Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 5 Zoll aufnehmen und ermöglicht eine volumenstarke Verarbeitung in kurzer Zeit. Insgesamt bietet SVS MSX-1000C Photoresist Asset maximale Genauigkeit, Kontrolle und Flexibilität bei der Verarbeitung von Fotomasken. Es ist eine ideale Lösung für Hersteller, die globale Präzision erzielen und die Prozessausbeute schnell und kostengünstig verbessern möchten.
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