Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112100 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Lithographie, die sehr vielseitig und zuverlässig ist. Das System bietet Anwendern eine hervorragende Auflösung und Stabilität im Nanometerbereich. Mit einer einstellbaren Scan-Geschwindigkeit und Schuss-zu-Schuss-Wiederholbarkeit Genauigkeit, TEL ACT 12 ist in der Lage, qualitativ hochwertige Oberflächenätzen und Muster auf Wafern und anderen Substraten zu produzieren. Das Gerät besteht aus hochwertigen Optiken, Verschlusssystemen und Linsenelementen, die Flare und Verzerrungen reduzieren und die Fokusauflösung verbessern. Die Optik bietet eine stabile und gleichmäßige Ausleuchtung des Substrats, was zu einer präzisen Lithographie führt. Darüber hinaus ist die Maschine so konzipiert, dass Benutzer das Belichtungsmuster und die Dosis auf dem Substrat genau steuern können. TOKYO ELECTRON ACT12 verfügt zudem über einen integrierten Wafer-Be- und Entlademechanismus, der schnell und zuverlässig ist. Dies ermöglicht eine Multi-Shot-Lithographie und einen höheren Durchsatz. Das fortschrittliche Bildgebungstool ermöglicht auch die Auswahl verschiedener Belichtungsmasken, um höhere Mustergenauigkeit zu erzielen. Dadurch lassen sich höhere Präzision und Formgrößen ohne Verzerrung herstellen. Darüber hinaus umfasst das Asset präzise Bühnen- und Antriebssysteme sowie eine einfach zu navigierende grafische Benutzeroberfläche. Die Stufe sorgt für eine konsistente und genaue Bewegung entlang der X-, Y- und Z-Achse, und der Antrieb ermöglicht eine präzise Kontrolle über Belichtungszeiten und Ausgangsleistung. Die grafische Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern, die gewünschten Einstellungen einfach auszuwählen und jeden Prozess anzupassen. TEL ACT12 wurde entwickelt, um die Zeit und den Aufwand zu reduzieren, die erforderlich sind, um Oberflächenätzungen und -muster ordnungsgemäß zu erzeugen. Die ausgezeichnete Optik, das Verschlussmodell und die Linsenelemente bieten Anwendern die Möglichkeit, anspruchsvolle Muster mit höheren Erträgen zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht der integrierte Wafer-Be- und Entlademechanismus eine schnellere und zuverlässigere Multi-Shot-Lithographie. Mit seinen fortschrittlichen bildgebenden Geräten und Bühnen- und Antriebssystemen bietet ACT 12 den Anwendern ein effizientes, zuverlässiges und präzises Fotolacksystem.