Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9364744 zu verkaufen

ID: 9364744
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
(4) Coater / (4) Developer system, 12" Wafer type: Notch Right to left Loading configuration: (3) Uni cassettes Cassette type: FOUP Inline CSB PRB1 PRB2 IFB AC Power box (2) Chemical boxes Main controller 25-Slots Coater unit (2-1, 2-2 Modules): (4) Dispense nozzles with temperature controller lines RDS Pump PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves Manual drain Programmable side rinse: CCSS Thinner supply BCT Unit (2-3,2-4 Modules): (2) Dispense nozzles with temperature controller line RDS Pump PR Suck-back valve: (4) Auto suck-back valves Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems Manual drain Programmable side rinse: Thinner supply: CCSS Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules): NLD Nozzle / Unit (2) Stream nozzles for DI rinse 2-Points for back side rinse Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems Developer supply: CCSS Developer temperature controller Direct drain ASML I/F Wafer stage Temperature Control Unit (TCU) (2) Chemical cabinets T and H Controller missing Power supply: AC 208 V, 3 Phase 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 Photoresist Equipment ist eines der führenden Systeme für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieses System ist für die Entwicklung und Herstellung von Dünnschichten ausgelegt, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie CPUs, GPUs, Speichern und anderen Komponenten verwendet werden. Es bietet eine präzise Dünnschichtverarbeitung, die für die erweiterte Geräteintegration erforderlich ist, und verfügt über leistungsstarke Funktionen zur Feinabstimmung der Dünnschichtbildung. TEL ACT 12 ist mit einem leistungsstarken Elektronenstrahl zur Photoresistmusterung und einer hochpräzisen Belichtungsstufe zur präzisen Positionierung und Strukturierung des Dünnfilms ausgestattet. Mit der einzigartigen Dual Beam Mapping Machine (DBMS) ist das Werkzeug in der Lage, hohe Gleichmäßigkeit und Genauigkeit bei der Dünnschichtbildung zu liefern. Das DBMS ermöglicht die gleichzeitige Detektion und Analyse der Elektronenstrahl-Dosisverteilung über die gesamte Fläche der Probe und ermöglicht eine hochauflösende Ansicht des Dünnschichtmusters. TOKYO ELECTRON ACT12 verfügt auch über eine hochpräzise Stufe und mehrere Musteralgorithmen zur Optimierung der Mustererzeugung sowie über leistungsfähige Software zur Überwachung und Diagnose von Belichtungsbedingungen. Die Anlage unterstützt eine Vielzahl von Photolackmaterialien und ermöglicht die Verarbeitung verschiedener Muster komplexer Strukturen. Das Modell unterstützt auch eine Reihe weiterer Optionen, darunter thermische Steuerung, mehrachsige Ausrichtung und Komponentenschutz. Mit seiner Kombination aus Präzision, Leistung und fortschrittlichen Eigenschaften ist ACT12 Photolackausrüstung die perfekte Lösung für die Herstellung von High-End-Halbleiterbauelementen. Das System bietet höchste Leistung und Genauigkeit und ermöglicht es Geräteherstellern, die feinsten und fortschrittlichsten Halbleiterbauelemente auf dem Markt zu produzieren. Es bietet auch eine extrem niedrige Betriebskosten, so dass es eine ideale Wahl für jede Produktionsumgebung.
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