Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #293610442 zu verkaufen

ID: 293610442
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Chiller Chemical box Power box Temperature and humidity controller Signal tower: (3) Lights Open cassette carrier Bake board type / Cooling board type: Proximity, Spacer Solvent supply method: Canister automatic switching, 10 L DEV Cup: PP+POM Modules: I/F ADH (3) TRS (3) CPL (6) LHP CWH WEE (4) STG DEV Nozzle: E2 Nozzle Rinse Back rinse 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL, einem der führenden Hersteller von Halbleiterherstellungsgeräten der Welt, entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, Schaltungen und andere Muster auf Wafern mit einer Auflösung von 5 µm zu erstellen. Es ist eine Multimuster-Photolackeinheit, die mehrere Schichten in einer einzigen Belichtung mustern kann. TEL ACT 8 hat eine große Waferkapazität von 12 „bis 24“ und ist in der Lage, große Substratvolumina gleichzeitig zu verarbeiten. Seine fortschrittliche Optikmaschine ermöglicht eine präzise und gleichmäßige Strukturierung. Sein Hochgeschwindigkeits-Scanner kann Substrate schneller und mit höherer Genauigkeit bewegen als frühere Modelle. Es verfügt über präzise Plasma-Dosiertechnologie für eine bessere Kantenplatzierung Genauigkeit und kann High-Speed-Bogen-Programmierung für präzise Musterung. TOKYO ELECTRON ACT 8 Werkzeug hat auch hervorragende Wafer Ausrichtung Fähigkeiten, dank seiner fortschrittlichen numerischen Apertur Asset. Desweiteren können Wafer über ihre eingebaute optische Mikroskopie genauer untersucht werden, die zur Feststellung von Defekten oder zur Beobachtung der Oberfläche des Substrats verwendet werden kann. Das Modell bietet zudem eine geringe Partikelverschmutzung und eine enge Partikelkontrolle. Es ist mit einem selbstscannenden Partikeldetektor ausgestattet, um eine sauberere Umgebung zu gewährleisten und die Größe und Menge der in der Ausrüstung vorhandenen Partikel zu überwachen. Zusammen mit dem Partikeldetektor kann das System auch die Verunreinigung durch Feuchtigkeit und Reinraumluft reduzieren. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Temperaturregelmaschine ausgestattet, die eine stabile Umgebung für die Produktverarbeitung gewährleistet und thermische Drift während der Produktexposition reduziert. Dieses Merkmal minimiert auch den Filmschrumpf und erhöht die Produktionsausbeuten. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine ideale Lösung für einige der fortschrittlichsten Photolackprozesse in der Halbleiterindustrie. Seine überlegenen Auflösungsfähigkeiten und die strenge Kontrolle über die Schichtdicke haben es zu einem der zuverlässigsten und konsistentesten verfügbaren Photoresist-Systeme gemacht. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Fähigkeiten ist ACT 8 Asset eine ausgezeichnete Wahl für alle Photoresist-Anforderungen bei der Herstellung integrierter Chips.
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