Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235975 zu verkaufen

ID: 9235975
(2) Coater / (2) Developer system Single block track, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Photolackausrüstung ist ein wichtiges Werkzeug in der Halbleiterverarbeitung. Es wird verwendet, um Muster in die Oberfläche von Halbleiterscheiben zu ätzen, um die elektronischen Wege, Strukturen und Bauelemente zu bilden, die elektronische Schaltungen und Bauelemente bilden. TEL ACT 8 Photolacksystem verwendet einen Photolack, ein lichtempfindliches Material, das auf die Oberfläche des Wafers aufgebracht wird. Bei Belichtung ändert der Photolack seine chemische Zusammensetzung und wird zu einem negativen Bild des auf die Oberfläche des Wafers projizierten Musters. TOKYO ELECTRON ACT 8 Einheit ermöglicht es einem Benutzer, die Musterdefinition, Form und Größe des aufgebrachten Photolacks zu steuern. Die Belichtungszeit und Intensität des Lichts kann auf die spezifische chemische Zusammensetzung des Fotolacks abgestimmt werden, wodurch Entwickler Funktionen wie Linienbreite, Auflösung und sogar Tiefe genau steuern können. ACT 8 Maschine hat auch mehrere Sicherheitsfunktionen, die vor unsachgemäßer Belichtung des Fotolacks schützen. Ein Algorithmus wird verwendet, um die Belichtungsdauer so zu steuern, dass eine falsche Belichtung vermieden wird und gleichzeitig die richtigen Ergebnisse gewährleistet werden. Das Werkzeug ist auch mit einem Sicherheitsverschluss ausgestattet, der Licht während der Wartung oder beim Wechseln von Resistmaterialien aussperrt, um sicherzustellen, dass der Bediener den Wafer nicht beschädigt. Die Kombination der Merkmale, die in TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist Asset gefunden werden, macht es zu einem idealen Werkzeug für die Entwicklung der Photolithographie. Die Fähigkeit, Funktionen und Sicherheitsmaßnahmen zu kontrollieren, trägt dazu bei, dass die Ergebnisse zuverlässig und konsistent sind. Darüber hinaus bietet das Modell der 8. Generation Flexibilität und Automatisierung auf hohem Niveau und ermöglicht schnellere und effizientere Photolithographie-Prozesse.
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