Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241944 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine von TEL (TOKYO ELECTRON) für die Photolithographie in Halbleiterherstellungsprozessen entworfene Photoresistausrüstung. Mit dem System TEL ACT 8 können integrierte Schaltungen (ICs) mit verbesserter Genauigkeit und Miniaturisierung hergestellt werden. Diese Einheit basiert auf den Kerntechnologien der Beleuchtungslithographie und Immersionslithographie. Die verbesserten Beleuchtungstechnologien der TOKYO ELECTRON ACT 8-Maschine reduzieren die Wirkung von Beugung und Verzerrung und ermöglichen eine optimale Strukturierung komplexer ICs mit verbesserter Präzision. Die Eintauchlithographie ermöglicht extrem kleine Tonhöhen. Dies wird durch Verwendung einer Projektionslinse mit niedriger numerischer Apertur (NA) und Strahlungsquelle erreicht. Dies ermöglicht eine präzise Strukturierung und hochauflösendes Drucken auf Halbleiterscheiben. Das Tool kommt auch mit einer fortschrittlichen Antireflexionstechnologie, die unerwünschte Lichtreflexionen reduziert, die den Wafer und das Endprodukt verschmutzen können. TOKYO ELECTRON ACT 8 asset verfügt auch über ein eingebautes DS-Inspektionsmodell (Dark Substrate), das vor oder während des Lithographieprozesses auf etwaige Defekte am Wafer prüft. Dadurch erhält der Anwender genaue Echtzeitinformationen über den Zustand des Wafers, was die Zuverlässigkeit des Endprodukts erheblich verbessert. Das Gerät wird auch mit einem Mark Alignment System (MAS) zur genauen Chip-Platzierung auf dem Wafer geliefert. Darüber hinaus stellt die im Gerät enthaltene Musterkorrektursoftware sicher, dass jeder Chip während der Produktion am richtigen Ort platziert wird. Die CCD-Kamera von ACT 8 ermöglicht die Überwachung des gesamten Lithographiedruckprozesses. Dies hilft bei der Überwachung unerwarteter Änderungen des Musters während des laufenden Prozesses, so dass Korrekturen vorgenommen werden können, bevor der Wafer beschädigt wird. Das Tool verfügt außerdem über ein PDS-Element (Position Detection Security), um zu verhindern, dass unbefugtes Personal auf das Modell zugreift. TEL ACT 8 Photoresist ist eines der fortschrittlichsten Photolithographie-Systeme, die derzeit für den Einsatz in der IC-Produktion verfügbar sind. Es bietet eine hervorragende Balance zwischen Beleuchtungs- und Immersions-Lithographietechnologien und ermöglicht die Herstellung hochkomplexer ICs mit höchster Präzision. Die DS-Inspektion und MAS tragen auch dazu bei, dass die Spanplatzierung und Waferqualität während des gesamten Herstellungsprozesses erhalten bleibt.