Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9296903 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es kombiniert zwei Arten von Technologien; absolut präzise Strahlabtastung und einzelnes Methylmethacrylat (MMA) als Photoresist. Die fortschrittliche Strahlscantechnologie ermöglicht es dem System, Muster mit nanoskaliger Präzision zu schreiben. Der Einsatz von MMA ermöglicht die Herstellung von Merkmalen im Nanometermaßstab. Zusätzlich verarbeitet diese Einheit Substratmaterialien bis zu einer Größe von 6 Zoll effizient. Die Kerntechnologie, die TEL ACT 8 so leistungsfähig macht, ist seine Elektronenstrahl-Schreibmaschine. Dabei wird ein Elektronenstrahl verwendet, der Muster präzise auf das Substrat übertragen kann, wodurch Muster bis zu 2 Nanometer Auflösung möglich sind. Diese Technologie wird auch verwendet, um den Balken auf die gewünschte Mustergröße zu formen und eine genaue Strukturierung zu gewährleisten. Der einzelne MMA-Fotoresist bietet eine luftdichte Beschichtung, die Verschmutzungen in der Produktionsumgebung verhindert. Dadurch bleibt der Mikrochip völlig frei von äußeren Materien, was die Genauigkeit des erzeugten Musters beeinträchtigen kann. Zudem entwickelt und trocknet das MMA schnell bei Raumtemperatur, was eine schnelle Wende ermöglicht. TOKYO ELECTRON ACT 8 nutzt auch eine wärmeunterstützte Stufe für die Nachbelichtung Backen Verarbeitung. Dadurch wird sichergestellt, dass alle schwierigen Substratmaterialien effektiv behandelt werden können, wobei Auflösungen bis zu 30 nm leicht erreichbar sind. Weitere Genauigkeit wird durch den Einsatz von Signalverarbeitungstechniken, wie Pulsverdopplung und Verdreifachung, erreicht. Um ACT 8 zu betreiben, muss der Benutzer spezielle Software verwenden. Diese Software ist in der Lage, das Muster auf dem Fotolack zu drehen, auszurichten und zu verfeinern. Es unterstützt auch Datenspeicher- und Analysefunktionen, die eine genaue Erkennung minutengenauer Details ermöglichen. Letztendlich wird sichergestellt, dass das gewünschte Muster mit der richtigen Präzision gedruckt werden kann. Abschließend ist TEL ACT 8 ein leistungsfähiges Photolackwerkzeug, das zur präzisen Strukturierung von nanoskaligen Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Die Kombination aus fortschrittlicher Strahlabtasttechnologie und einem einzigen MMA-Photoresist führt zu einer Nanometergenauigkeit für alle Substratmaterialien. Zusätzlich wird das Asset durch eine ausgeklügelte Software für mehr Präzision gesteuert, während die wärmeunterstützte Stufe eine weitere Genauigkeit hinzufügt.