Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312218 zu verkaufen

ID: 9312218
Coater / Developer system, 8" System controller (2) Chemical cabinets: Chemical cabinet 1: HMDS, Solvent and developer Chemical cabinet 2: PR (2) SMC Temperature Control Unit (TCU) AC Power box Carrier station: Type: Uni-cassette 4-Cassette stages, 1 pick-up Coater unit: (4) Dispense nozzles with temperature control line Mini RRC pump Rinse nozzle: EBR, Back rinse, solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems PR Suck back valve type: Suck-back valve Direct drain TARC Coater unit: (3) Dispense nozzles with temperature control line Mini RRC pump Rinse nozzle: EBR, Back rinse, solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems PR Suck back valve type: Suck-back valve Direct drain Developer unit: H Nozzle (2) Stream nozzles for D.I W rinse 2 Points for back side rinse Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems Developer temperature control system Direct drain (2) Adhesion units: Closed chamber (Built-in hot plate) HMDS Tank with float sensor Interface High temperature hot plate (14) Low temp hot plates (7) Chill plates (CPL) (4) Chilling Hot Plate (CHP) process station (3) TRS Modules TCP Module HCP Module Wafer Edge Exposure (WEE) Module Wafer type: Notch, DUV type Missing parts: CSB motor I/O Board 2-0 PRA θ Motor driver CSB Add on board 3-4 Panasonic motor 3-1 Out cup cylinder 3-1 Arm 1 3-1 Arm 2 PRB2 Chemical IO board Temperature and humidity controller ((2) Cups) 2-0 PRA X Motor driver 4-0 IRA Z Motor drive 4-0 IRA UPS WEE Theta driver 4-0 IRA Motor IO board 4-0 IRA IFB Add on board Hard Disk Drive (HDD) 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine branchenführende Photolackausrüstung, die von TEL, einem japanischen Unternehmen, das sich auf Halbleiterausrüstung spezialisiert hat, entwickelt wurde. Das mit fortschrittlicher Technologie entwickelte System bietet Anwendern eine hochmoderne, automatisierte Einheit zur Bearbeitung von Wafern. Die Maschine zeichnet sich durch hohe Präzision und hohe Genauigkeit aus. Es bietet einen überlegenen Ätzprozess, indem ein Substrat unter Beibehaltung einer hohen Genauigkeit dem Licht ausgesetzt wird. Das Werkzeug filtert Licht, um das Bild zu stabilisieren, Verzerrungen zu reduzieren und die Genauigkeit der Linienbreite zu verbessern. Mit seiner Hochgeschwindigkeits-Prozesssteuerung ist TEL ACT 8 in der Lage, über 300 Wafer pro Stunde zu handhaben. Es nutzt auch ein integriertes Software-Asset, mit dem Benutzer Prozessbedingungen überwachen, Auffälligkeiten aufdecken und schnell auf sich ändernde Prozessanforderungen reagieren können. Das Modell ist mit intelligenten Funktionen ausgestattet, wie Echtzeit-Datenerfassung, mit der Benutzer Prozessdaten erfassen können, um Prozesstrends zu analysieren und die Produktion besser zu verwalten. Es verfügt über einen Clean Track Reinigungsmechanismus, um Photoresists mit Reinigungslösungen zu durchdringen, ohne die Wafer zu beschädigen. Das Gerät liefert qualitativ hochwertige, kostengünstige Ergebnisse durch Minimierung der Linienbreitenvariation und Minimierung des Bedarfs an aggressiver Entnahme. Es unterstützt auch empfindliche Anwendungen, wie Dünnschichtablagerungen. Darüber hinaus verfügt das System über automatisierte Test- und Datenanalysefunktionen, mit denen Benutzer Probleme diagnostizieren und Ausfallzeiten minimieren, Produktionszeiten freisetzen und die Effizienz steigern können. TOKYO ELECTRON ACT 8 liefert die branchenweit beste Photolackeinheit zu einem erschwinglichen Preis. Seine Präzision und Automatisierung kommen zusammen, um zuverlässige Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern. Seine Vielseitigkeit und Flexibilität ermöglichen es Anwendern, die Maschine auf ihre spezifischen Bedürfnisse abzustimmen, um die höchste Qualität des Fotolacks zu produzieren, die ihren spezifischen Bedürfnissen entspricht.
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