Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312222 zu verkaufen

ID: 9312222
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Coater / Developer system, 8" Main frame with system controller Carrier station: Type: Normal uni-cassette 4-Cassette stages Pick-up cassette Coater unit: (3) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) Buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain TARC Coater unit: (2) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain Developer unit: SH Nozzle (2) SH Nozzles for DI Rinse 2-Points for back side rinse Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems Developer temperature control system Direct drain (3) Adhesion units: Sealing closed chamber (Built-in hot plate) HMDS Tank with float sensor system Interface (15) Low temp hot plates (14) Chill plates (CPL) (3) TRS Module TCP Module Wafer Edge Exposure (WEE) Module Wafer type: Notch, DUV Type (2) Chemical cabinets: Chemical cabinet 1: Solvent and developer Chemical cabinet 2: HMDS and PR (2) Temperature Control Units (TCU) AC Power box Missing parts: 2-1 COT Spin I/O Board 2-4 COT EBR Nozzle tip 2-4 COT EBR Nozzle valve 2-1 Nozzle changer motor 3-2 Shutter cylinder (2) PRB YASUKAWA Spin motor drivers 2-0 PRA Z-Driver 3-0 PRA Z-Driver Temperature and humidity controller (For 4 chu) Hard Disk Drive (HDD) 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL in Partnerschaft mit Canon Electronics entwickelt wurde. Es ist eine Technologie der nächsten Generation, die die leistungsstarken Fähigkeiten eines einstrahligen oder zweistrahligen tiefen ultravioletten (DUV) Laserlithographiesystems mit fortschrittlichen Resisttechnologien kombiniert. Die Kernteile dieser Einheit sind ein tiefer Ultraviolettlaser, Resistprozessor und Feinausrichtungsstufe. Der Tief-Ultraviolett-Laser strahlt einen Strahl mit einer Wellenlänge von 248 nm aus und ist damit ideal für extrem kleine Merkmale auf dem gedruckten Wafer. Es kann auch bis zu acht Schichten gleichzeitig verarbeiten, was eine signifikante Produktivitätssteigerung bedeutet. Der integrierte Resistprozessor und die Feinausrichtungsstufe sorgen für eine präzise Steuerung des gesamten Photolithographie-Prozesses. Darüber hinaus wurde TEL ACT 8 entwickelt, um Produktionszykluszeiten zu minimieren. TOKYO ELECTRON ACT 8 enthält auch mehrere erweiterte Funktionen. Es ist in der Lage, eine Auflösung von bis zu 12nm in einem einzigen Durchgang zu erreichen, so dass die Schaffung von sehr komplizierten Schaltungsmustern. Die Maschine umfasst auch dynamische Fokusfunktionen, die die Korrektur von Fehlstellungen während des Belichtungsprozesses ermöglichen. Darüber hinaus verfügt TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 über ein ausgeklügeltes Rezept-Management-Tool, eine intuitive Benutzeroberfläche und eine präzise Einheitlichkeitskontrolle. ACT 8 ist sehr zuverlässig und kann die gewünschte Auflösung für bis zu 100 Wafer beibehalten. TOKYO ELECTRON hat intensive Zuverlässigkeitstests durchgeführt, um eine überlegene Leistung auch unter extremen Bedingungen zu gewährleisten. Der Vermögenswert erfüllt die Anforderungen führender internationaler Halbleiterunternehmen und wurde von vielen von ihnen weltweit übernommen. Das Photolackmodell kann in den unterschiedlichsten Branchen eingesetzt werden, von der Elektronik über Automobilteile bis hin zu Medizinprodukten. TEL ACT 8 bietet unübertroffene Präzision und eignet sich gut für Aufgaben, die sehr feine Details beanspruchen, wie zum Beispiel in Mikro-LEDs und Mikrowiderständen. Die Ausrüstung ist auch schnell, effizient und zuverlässig, so dass es ideal für Serienproduktionen ist. Unabhängig von den Anforderungen liefert ACT 8 höchste Qualitätsergebnisse bei minimalen Ausfallzeiten. Die Kombination aus Präzision, Effizienz und Zuverlässigkeit macht es zur perfekten Wahl für jede Anwendung, die höchste Leistung fordert.
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