Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610620 zu verkaufen
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ID: 293610620
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD System, 8"
VME Type: Hard disk
21-Slots controller
SBC Board type: V21 Synergy
VGA Video board
Robot type: Phase-III
8-Slots storage elevator
No WPS sensor
Standard slit valve
Heat exchanger
Floppy Disk Drive (FDD): 3.5"
Standard cassette handler
I/O Wafer sensor
No Load lock slow vent
Load lock purge
Exhaust line type: Top, standard
Gas panel: (28) Gas lines
Chamber type:
Chamber A: Universal CVD
Chamber B: Standard CVD
Chamber A, B:
Process: PECVD Oxide
Process kit: Susceptor
MKS Manometer, 100 Torr
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: AERA
Lamp driver
ENI OEM-12B RF Generator
RF Match: Phase-IV
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine fortschrittliche Reaktorkammer, die speziell für Halbleiterprozessanwendungen entwickelt wurde. Diese Reaktorkammer bietet eine breite Palette von Funktionen, die es ihr ermöglichen, in einer Vielzahl von Anwendungen überlegene Leistung und Kontrolle zu liefern. Die Reaktorkammer besteht aus hochwertigem Edelstahl und ist zum Korrosionsschutz nitridbehandelt. Die Kammer ist für die AMAT P-5000 Waferbearbeitung mit einem Radius von 30,7 cm, einer Kammerbreite von 45,7 cm und einer Kammerhöhe von 39cm ausgelegt. ANWENDUNGSMATERIALIEN Die Reaktorkammer P 5000 nutzt ein vollständig automatisiertes Prozessleitsystem, das so eingerichtet werden kann, dass eine breite Palette von benutzerdefinierten Parametern wie Kammerdruck, Temperatur, Substrattemperatur, thermischer Zyklus und Gasfluss möglich ist. Das Prozessleitsystem umfasst auch einen eingebetteten Datenlogger, der Prozessinformationen speichert und abgerufen werden kann, um Trends zu analysieren und die besten Parameter für eine bestimmte Anwendung zu ermitteln. Dies ermöglicht eine verbesserte Zuverlässigkeit und Genauigkeit der Verarbeitungsergebnisse. Zur Reaktorkammer gehört auch eine Gasplatte mit zwei getrennten Gaskrümmern und Reglern. Das Gaspanel steuert die von jedem Verteiler bereitgestellten Gase sowie den Druck und die Strömungsgeschwindigkeit der Gase. Dadurch kann der Anwender die Prozessbedingungen anpassen, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. AMAT/APPLIED MATERIALS Die Reaktorkammer P 5000 ist für den Einbau in eine Arbeitsumgebung ausgelegt, die frei von Umweltschutt, Staub und anderen Partikeln ist. Die Kammer ist mit einem statischen Entladungskabel ausgestattet, um den statischen Stromaufbau innerhalb der Kammer zu minimieren. Die Kammer ist mit einem automatisierten Stickstoffspülsystem und einer Einlassöffnung ausgestattet. Die Einlaßöffnung ist so ausgelegt, daß erhitzter Stickstoff und andere Prozessgase in die Kammer geleitet werden können. Dies trägt zur Maximierung der Prozesseffizienz und -konsistenz bei. Darüber hinaus ist die Reaktorkammer P 5000 für eine einfache und einfache Wartung ausgelegt. Die Kammer enthält abnehmbare obere und untere Dichtungen innerhalb der Kammer, die leicht entfernt werden können, um eine periodische Reinigung und Wartung der Kammer zu ermöglichen. Dies reduziert Ausfallzeiten und ermöglicht es dem Benutzer, die Verarbeitung ohne Unterbrechung fortzusetzen. AMAT P5000 Reaktorkammer ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Werkzeug für die Halbleiterverarbeitung. Seine Eigenschaften machen es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet und seine Wartung ist einfach und effizient. Bei ordnungsgemäßem Betrieb und Wartung kann diese Reaktorkammer helfen, qualitativ hochwertige Ergebnisse und zuverlässigen Langzeitbetrieb zu gewährleisten.
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