Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308754 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein AMAT-Reaktor, der hauptsächlich zur Verarbeitung von Halbleitermaterialien verwendet wird. Es ist ein High-Tech-Gerät, das für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann, einschließlich chemische Dampfabscheidung (CVD), Atomschichtabscheidung (ALD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD). AMAT P-5000 kann Materialien bei Temperaturen bis 200 Grad Celsius verarbeiten. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist ein Reaktor im Batch-Stil mit hohem Durchsatz. Die Reaktorkammer ist mit sechs thermisch isolierten Zonen ausgebildet, die unabhängig voneinander aufgeheizt oder abgekühlt werden können. Dies hilft, eine gleichmäßige Wärmeverteilung in der gesamten Kammer zu ermöglichen. Die Kammer ist ferner mit einem 4-Gas-Trichter, einer fortgeschrittenen Druckregeleinrichtung, einem elektrooptischen Viewport und einer differentiellen Gasströmungsanordnung ausgestattet. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über eine einzigartige patentierte Kaltwandkonfiguration, die eine Hochdurchsatzverarbeitung bei niedrigeren Temperaturen ermöglicht. Es verfügt auch über eine optionale E-Strahl-Heiztechnologie, die eine Hochtemperaturverarbeitung mit ausgezeichneter thermischer Gleichmäßigkeit ermöglicht. AMAT P 5000 verfügt auch über einen „Quarz Spacer Between Wafers“ (QSBW) -Modus, der die Gleichmäßigkeit verbessert und die Partikelbildung reduziert. Darüber hinaus können P-5000 mit einem integrierten Load-Lock-System zum Be- und Entladen großer Losgrößen angepasst werden. Dieses Gerät ist auch mit einem vakuumisolierten Handlingarm sowie einer automatisierten HF/DC-Plasmaquelle ausgestattet. AMAT P5000 verfügt außerdem über einen Kühlkrümmer mit geschlossener heißer Plattform (BHKW), der für eine gleichmäßige Kühlung in der gesamten Kammer und auf Waferebene ausgelegt ist. APPLIED MATERIALS P5000 ist eine vielseitige und zuverlässige Reaktormaschine, die automatisierte, selbstüberwachende Prozesse für die Materialbearbeitung im Mikro- und Nanobereich bereitstellt. Es ist eine zuverlässige, kostengünstige Lösung für verschiedene Arten von CVD-Anwendungen, von dünnen Filmen und Membranen bis hin zu komplexen Strukturen.