Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389401 zu verkaufen

ID: 9389401
Wafergröße: 6"
CVD System, 6" SV21 SBC Board Main frame type: Mark-II Cassette indexer, 6" Clamp 8 Slots elevator (2) CRT Monitor Robots: Phase-III Robot blade: Standard vacuum Centerfinder: USE Cap wafer sensor AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger EMO Option: Turn to rekease EMO Button guardrings Status light tower (Color / Position): Red, Yelow, Green, Blue Signal cable: 25' Flash hard disk drive Floppy: 3.5" SCSI Driver Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller RF Generator: Chamber A: OEM12B-02 Chamber B: OEM12B-02 Chamber C: OEM12B-07 Chamber: Chamber position: A, B, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: Al (3) Matchers Delta nitride dual spring throttle valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: UFC-1660 Manual valve: NUPRO Pneumatic 2-Way valve: NUPRO MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein hochwertiges und zuverlässiges Werkzeug, das in der Halbleiterindustrie zur Verbesserung der Prozessleistung und zur Überwachung der Zuverlässigkeit der Bauelemente eingesetzt wird. Dieser Reaktortyp besteht typischerweise aus einer Ionenquelle, einer Prozesskammer und einer Elektronenkanone. Die Ionenquelle dient zur Erzeugung eines kontrollierten Plasmas, das zum Abscheiden von Materialien auf der Oberfläche des Werkstücks verwendet wird. Die Prozeßkammer wirkt als Reaktionskammer, in der das Plasma auf die gewünschten Prozeßbedingungen modifiziert wird. Dies geschieht durch Steuerung von Gasfluss, Druck, Leistung und anderen Parametern. Die Elektronenkanone ist ein starker Elektronenstrahl, der verwendet wird, um die Oberfläche des zu behandelnden Materials physikalisch zu modifizieren. Die Hauptmerkmale des AMAT P-5000 Reaktors sind seine Fähigkeit, präzise und wiederholbare Verarbeitungsergebnisse zu liefern, sowie seine Fähigkeit, eine sensible Prozessüberwachung durchzuführen. Diese Art von Reaktor setzt auf ein Mehrkanal-Feedback-System und fortschrittliche Automatisierungssoftware, um konsistente, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Dieser Reaktortyp verfügt auch über ein fortschrittliches Diagnosesystem, das den Zustand von Komponenten überwacht und eine effizientere Nutzung von Ressourcen ermöglicht. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor ist relativ kompakt und robust, so dass es ideal für den Einsatz in rauen Umgebungen. Es verfügt auch über ein integriertes Diagnosesystem, das Daten während des gesamten Prozesses überwacht und aufzeichnet und effiziente Operationen, Fehlerbehebung und Wartung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Gerät eine sichere Arbeitsumgebung mit Sicherheitsfunktionen, die versehentliche Überhitzungen oder Stromabschaltungen verhindern und überwachen. P5000 Reaktor ist für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie gut geeignet und wird häufig in Abscheide- und Ätzprozessen eingesetzt. Es ist in der Lage, Substrate mit hohen elektrischen, thermischen und optischen Eigenschaften zu verarbeiten, wodurch es für eine Reihe von Materialien wie Polymere, Keramik, Metalle und Verbundhalbleiter geeignet ist. Darüber hinaus kann der Reaktor für eine Vielzahl von Verfahren wie Ionenimplantation, PECVD, Sputtern und eine Vielzahl von chemischen Ätzanwendungen eingesetzt werden. Abschließend ist APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ein fortschrittliches, zuverlässiges und präzises Werkzeug, das in der Halbleiterindustrie verwendet wird, um die Prozessleistung zu verbessern und eine präzisere Überwachung zu ermöglichen. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen machen und präzise und wiederholbare Ergebnisse, eine präzise Überwachung und einen robusten Betrieb in einer sicheren Arbeitsumgebung bieten. Es ist die perfekte Wahl für die Präzisionsbearbeitung in der Halbleiterindustrie.
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