Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9396227 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Art halbleiterbasierter PVD-Reaktor (Physical Vapor Deposition). Es ist für die Halbleiterverarbeitung einschließlich Sputtern und Quellenabscheidung konzipiert. Bei diesem Reaktor handelt es sich um eine Vakuumkammer, mit der dünne Materialschichten auf Substrate abgeschieden werden. Das System besteht aus einer Prozesskammer, einer Hochvakuumpumpe, einem Heizelement und einem Steuerrechner. Die Prozesskammer von AMAT P-5000 ist eine zylindrische metallische Struktur, die mit Isoliermaterial beschichtet ist. Es hat einen Innendurchmesser von 250 mm und ist mit einem Prozessspulenmagneten ausgestattet, der zur Ionisierung des zerstäubten Materials und zur Verbesserung der Haftung der abgeschiedenen Folien verwendet wird. Die Prozesskammer wird mit keramischen Heizelementen beheizt und kann Temperaturen bis 1000 ° C erreichen. Durch die Hochvakuumpumpe kann die Kammer auf Drücke von 0,1 Torr oder weniger evakuiert werden. Nach dem Evakuieren der Kammer wird mit einem Inertgas, wie Argon, eine saubere und stabile Umgebung innerhalb der Kammer erzeugt, um sicherzustellen, dass die Folien gleichmäßig auf dem Substrat abgeschieden werden. Das Prozeßgas, typischerweise Sauerstoff, wird ebenfalls in die Kammer eingeleitet, um die Kohlenstoffverunreinigung zu unterstützen und die Gleichmäßigkeit der Folien zu verbessern. Der Steuerrechner ist für die Steuerung der Prozessparameter und die Überwachung des gesamten Systems zuständig. Es ermöglicht eine präzise Steuerung von Parametern wie Prozessleistung, Kammerdruck, Temperatur und Gasdurchfluss. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der gewünschten Folien, einschließlich Folien, die auf ganz bestimmte Spezifikationen ausgerichtet sind. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist ein effizienter Hochleistungsreaktor. Es ist in der Lage, hohe Abscheideraten mit ausgezeichneter Schrittabdeckung und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Mit seiner präzisen Prozesssteuerung und sauberen Betriebsumgebung ist es eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Sputter- und Quellabscheidungsanwendungen.