Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402081 zu verkaufen

ID: 9402081
Wafergröße: 6"
CVD System, 6" Robots: Phase-III Standard O-Rings 8-Slots elevator (2) CRT Monitors AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger PROTEUS Water flow sensor Flexible water hose Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue Signal cable: 25" Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Mini-controller RF Generator: (2) ENI OEM12B-02 ENI OEM12B-07 Chamber: Chamber position: A, B, C, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: AL, 6" (4) Matchers Delta nitride dual spring throttle valve Delta nitride isolation valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: SEC 4400MC Manual valve: FUJIKIN Pneumatic 2-Way valve: FUJIKIN MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine Art Abscheidekammer, die bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen verwendet wird. Es handelt sich um eine Hochvakuumkammer, mit der dünne Filme aus verschiedenen Materialien auf einem Substrat abgeschieden werden. Dieser Reaktor ist in der Lage, sowohl Ein- als auch Mehrschichtfolien unter genauer Kontrolle ihrer physikalischen und chemischen Eigenschaften abzuscheiden. Die Kammer dieses Reaktors hat eine zylindrische Form mit einem kegelförmigen Boden. Es besteht aus Edelstahl, Titan und Verbundwerkstoffen. Die Kammer wird mit einer turbomolekularen Vakuumpumpe evakuiert, die eine für die Dünnschichtabscheidung geeignete Niederdruckumgebung bereitstellt. Die Kammer enthält einen lithifizierten Silizium (Si) tiegel, der durch einen Elektronenstrahl erhitzt wird. Der Elektronenstrahl gibt eine präzise Steuerung der Temperatur in der Kammer, wodurch die Abscheidungsparameter präzise gesteuert werden können. Dieser Reaktor ist auch mit einem Prozessmassenstromregler ausgestattet, der eine präzise Steuerung der Materialflussraten in die Kammer ermöglicht. Dies ermöglicht die Abscheidung unterschiedlicher Schichten mit unterschiedlichen Dicken. Darüber hinaus ist der Reaktor mit einem ultrahochreinen Gasverteilungssystem ausgestattet, mit dem die entsprechenden Reaktivgase für die Abscheidungsprozesse bereitgestellt werden. Der Reaktor ist mit einer Lastschleuse ausgestattet, die es ermöglicht, Proben nach Bedarf zu be- und entladen. Dadurch können Proben in einer kontrollierten Umgebung montiert und bewegt werden, wodurch Verschmutzungen reduziert werden. AMAT P-5000 Reaktor ist hocheffizient und bietet eine hochwertige Umgebung für Dünnschichtabscheidung. Die präzise Steuerung der Prozessparameter und die effiziente Be-/Entladung machen es zu einer der beliebtesten Abscheidekammern. Es eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen in der Mikroelektronik-Fertigung und kann problemlos in bestehende Produktionslinien integriert werden.
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