Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9407851 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Plasmaätzreaktor ist ein hochentwickeltes atmosphärisches Druckätzgerät für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieser Reaktor verfügt über eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich Präzisionsätzen, hochauflösender Strukturierung und präziser Dotierung kleiner, komplizierter Substratstrukturen. AMAT P-5000 ist in der Lage, Tiefätzen und anisotropes Ätzen sowie Isolationsmustern und präzises Dotieren durchzuführen, was es zu einem idealen Werkzeug für eine Vielzahl von leistungsstarken elektronischen Anwendungen wie ULSI-Schaltungen und Verbundhalbleiterbauelementen macht. Angewandte Materialien P 5000 verwendet eine Elektronenzyklotronresonanz (ECR) Mikrowellen-Plasmaquelle, um Radikale und Ionen zu erzeugen, um Halbleitermaterialien effektiv zu ätzen und zu dotieren. Diese ECR-Quelle arbeitet bei 13,56 MHz und bietet APPLIED MATERIALS P5000 eine sehr stabile und präzise Plasmaumgebung. Aus diesem Grund ist P 5000 in der Lage, Funktionen mit hohem Seitenverhältnis zu ätzen, die für die Herstellung kleiner Funktionen für hochauflösende Geräte nützlich sind. Darüber hinaus weist P5000 auch eine hohe Ätzselektivität auf, so dass verschiedene Materialien selektiv geätzt werden können, ohne die darunter liegenden Schichten zu beschädigen. P-5000 verfügt über ein benutzerfreundliches, menügesteuertes Bediensystem, das eine schnelle und einfache Bedienung ermöglicht. Es verfügt auch über automatisches Tuning, wodurch der Betrieb noch einfacher wird und Benutzer schnell zwischen verschiedenen Ätzrezepten und Prozessschritten wechseln können. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 mit einer integrierten Computersteuerung ausgestattet, die es ermöglicht, mit anderen Geräten desselben Typs verbunden zu werden. Diese Computersteuerungsmaschine ermöglicht es dem Anwender auch, die Prozessparameter präzise zu steuern und damit konsistentere Ergebnisse zu erzielen. AMAT P5000 ist in der Lage, Substrate mit einer Vielzahl von Abmessungen zu handhaben. Es ist kompatibel mit Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 8 "und eignet sich somit für die Herstellung von hochauflösenden Substraten. Das Werkzeug ist in einer temperatur- und feuchtigkeitsgesteuerten Umgebung eingeschlossen, wodurch Temperatur und Gasstabilität während des Prozesses gewährleistet sind. Insgesamt ist AMAT P 5000 eine fortschrittliche Plasmaätzanlage, die in der Lage ist, genaues, präzises Ätzen und Dotieren von Halbleitermaterialien durchzuführen. Mit seinem breiten Spektrum an Prozessfähigkeiten und dem benutzerfreundlichen Betriebsmodell bietet APPLIED MATERIALS P-5000 eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, hochauflösende Schaltungen und Geräte zu ätzen.