Gebraucht NIKON NSR 1505 G6E #293602162 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR 1505 G6E
ID: 293602162
Stepper Reduction projection optical system: Numerical aperture: 0.54 Reduction ratio: 5:1 Lens distortion: Within ±0.12 µm (for X and Y) Exposure wavelength: G-Line (458 nm) Exposure area: Diameter: 24.74 mm 15 mm x 15 mm 13.42 mm x 20.14 mm Illumination optical system: Exposure power: 300 m-W/cm² Illumination uniformity: Within ±2.5% Integrated exposure stability: Within ±2% (For ≥30 mJ/cm²) Exposure time setting range: 0.05 sec to 9.9999 sec and 0 sec Ultra high pressure mercury lamp: 1000 W Auto focus system: Oblique incident light detection method Repeatability: ±0.02 µm Vertical stroke: 0.6 mm Focus offset entry range: ±30 µm.
NIKON NSR 1505 G6E ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der eine präzise Lithographie-Verarbeitung auf Nanometerebene ermöglicht. Das Tool nutzt modernste Technologien, um eine präzise und hocheffiziente strukturierte Abbildung von Silizium-Wafern zu ermöglichen. Das Gerät verfügt über eine Hochleistungs-Abbildungsstufe und zwei unabhängig steuerbare Lithographiestufen, die präzise, mehrfach belichtete Ausrichtungen ermöglichen, um eine hochauflösende Bildgebung zu erreichen. Das System nutzt auch eine hochgenaue Fokuserkennungseinheit, um präzise Bildfokussierungen zu gewährleisten. NIKON NSR-1505G6E ist mit einer Hochgeschwindigkeits-Scanmaschine ausgestattet, die das Scannen von bis zu 6.000 mm/s unterstützt, und einem hochgenauen Positionierwerkzeug, das eine Positionsgenauigkeit von 1,7 Nanometern erreichen kann. Das Werkzeug ist auch in der Lage, eine Aufzugstrahl-Scan-Fähigkeit zur Verfügung zu stellen, ermöglicht Multi-Muster-Belichtung in einem einzigen Belichtungsschritt. Diese Funktion ist mit einem einzigartigen „überlappenden“ Algorithmus gekoppelt, der es der Musterbelichtung ermöglicht, jedes Design mit mehr als 15 Mustern erfolgreich abzudecken. Die NSR 1505 G6E ist zudem benutzerfreundlich und flexibel gestaltet. Das Tool ist mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die die Bedienung erleichtert und Änderungen am Lithographie-Rezept und Programmsatz ermöglicht. Darüber hinaus ist dieser Stepper so konzipiert, dass er mit einer Reihe beliebter Lithographie-Belichtungsmethoden kompatibel ist, darunter Deep Ultraviolet (DUV), KrF und i-line sowie vordefinierte Belichtungsmuster. Das Werkzeug verfügt außerdem über einen wartungsfreien Betrieb mit einem mehrlagigen Waferhalter zur Sicherung von Wafern während der Belichtung. Insgesamt ist NSR-1505G6E ein leistungsstarker und fortschrittlicher Wafer-Stepper, der präzise Lithographie-Funktionen von Nanometer bis Mikrometer bietet. Seine schnelle Scan- und Positioniergenauigkeit ermöglicht eine effiziente und präzise Lithographie-Bildgebung, die für die Herstellung von Chips und anderer Elektronik entscheidend ist. Der wartungsfreie Betrieb des Modells und die benutzerfreundliche Oberfläche machen es zu einem Werkzeug für Organisationen und Einzelpersonen, die nach einem zuverlässigen und vielseitigen Wafer-Stepper für ihre Lithographie-Anforderungen suchen.
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