Gebraucht NIKON NSR 2005 i8A #9159993 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i8A ist ein Submikron-Wafer, der 2005 von NIKON Precision Inc. entwickelt wurde. Der Stepper basiert auf der firmeneigenen Feldlinsen-Tauchtechnologie, die optimiert wurde, um eine Vielzahl von Anwendungen zu unterstützen, einschließlich miniaturisierter Halbleiter- und Nanofabrikationsprozesse. NIKON NSR 2005I8A ist mit zwei Objektivsätzen ausgestattet, die zusammenarbeiten, um das Bild oder Muster zu vergrößern und Aberrationen zu reduzieren. Der erste Satz besteht aus Feldlinsen, die nicht strahlteilend sind und eine flache Wellenfront für die Bildgebung bereitstellen. Diese Linsen minimieren auch die Innenfeldkrümmung und ermöglichen eine gleichmäßige und hochauflösende Bildgebung. Der zweite Satz besteht aus Sekundärlinsen, die mit Reflexionsspiegeln das Licht der Feldlinsen in der Belichtungsstufe korrekt fokussieren. Der Stepper ist auch mit einem VCM (Variable Center of Mass) -System ausgestattet, das schnelle und hochgenaue Einstellungen der Belichtungsenergie und der Fokusposition ermöglicht und eine genaue Belichtung der Submikronfunktionen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt NSR-2005I8A über ein integriertes Belichtungssteuerungssystem, das das Lichtmuster genau reguliert und eine hohe Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Belichtungsenergie gewährleistet. NSR 2005I8A verfügt auch über ein einzigartiges Bühnenbild. Der Stepper verwendet eine zweistufige Konfiguration, die eine schnelle und präzise Positionierung innerhalb einer Waferebene ermöglicht. Dies ermöglicht einen schnelleren Durchsatz und eine höhere Genauigkeit innerhalb des Belichtungszyklus. Darüber hinaus ist der Stepper mit Vakuumfuttern für zuverlässige Waferklemmung und Temperaturregler für gleichmäßige Wafertemperatur ausgestattet. Insgesamt ist NSR 2005 i8A ein zuverlässiger und leistungsfähiger Wafer-Stepper, der sich für eine Vielzahl von Anwendungen in Halbleiter- und Nanofabrikationsprozessen eignet. Das zweistufige Design des Steppers, die eintauchbare Feldlinsentechnologie und das Belichtungssteuerungssystem ermöglichen eine genaue und gleichmäßige Belichtung der Submikroneigenschaften.