Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353489 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 9353489
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Wet bench, 12" Process: MRCA Pre-clean Load port Transfer module SD2 SC1 (M/S) DHF Power box O3 Generator Fire extinguisher (3) MIKRO Sonic (2) U02800PMCA U02400PMAM Light tower Fire extinguisher light Alarm rotating light Yellow alarm light Exhaust / Drain box (2) Exhaust assy (4) Clear plastic cover (Middle) (8) Plastic cover (Top) Water pipe assy Robot track assy (2) Auto L type Foot stool assy KOMATSU GRS-612 KOMATSU AIC-7-12-T1 (2) Air driven pump controllers (6) Step frames (5) White covers Top frame HORIBA Assy Load / Unload module: Transfer module: Tank SD2 (Dryer): Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 l/min POU (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: QUARTZ Temperature: 70°C Proportion: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000 Megasonic: SSDM 2800 W Cold DIW: 40-60 L/Min Hot DIW: 40-60 L / Min Heater CEH-480 Concentration monitor SC1 (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 55°C Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:100 Megasonic: SSDM 2800 W FF-20BT1 Pump AIH-124QS CS Heater with WJ Filter: QCCZATM01K, 0.05 µm HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor QDR: Process bath material: QUARTZ Cold CIW: 40-60 l/min DHF: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold CIW: 40-60 l/min Mixing ratio: DHF:H2O, 1:25 FF-20BT1 Pump COOLNICS Heater Filter: IHIG01M01K, 0.2 µm CM-210-05 Concentration monitor 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine nasse Prozessstation, die den Anforderungen chemischer Nassverarbeitungsanwendungen gerecht wird. Es ist eine hochautomatisierte Ausrüstung, die einen fortschrittlichen Waferübertragungsmechanismus mit einem anpassbaren Modulsystem kombiniert. TEL Expedius eignet sich für eine breite Palette von Prozessmodulen, von einer herkömmlichen Batch-Taucheinheit bis hin zu einer Single-Wafer-Maschine, mit der Kunden ihren Prozess nach bestem Wissen und Gewissen optimieren können. Eines der innovativeren Merkmale des TOKYO ELECTRON Expedius-Tools ist sein fortschrittliches Wafer-Transfermodul. Diese Anlage ist darauf ausgelegt, Wafer schnell und effizient zwischen mehreren Kammern zu übertragen, wodurch die Wafer in viel kürzerer Zeit bearbeitet werden können. Dieses Modul bietet auch eine größere Genauigkeit und Kontrolle bei der Handhabung von Wafern. Darüber hinaus verwendet Expedius-Modell auch einen Roboterarm, um die Wafer genau zu positionieren, wodurch die Möglichkeit einer mechanischen Beschädigung minimiert wird. Die modulare Ausstattung von TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ermöglicht es, das System so anzupassen, dass es den Bedürfnissen jedes Kunden am besten entspricht. Die in einer TEL Expedius-Einheit einsetzbaren Module umfassen ein Tauchbeschichtungsmodul für Tauchscheiben, ein Tensideintauchmodul für die Oberflächenbehandlung, ein Nassätzmodul für die Ätzung und ein Photoresist-Beschichtungsmodul. TOKYO ELECTRON Expedius Maschine enthält auch ein integriertes Softwarepaket, mit dem Benutzer ihre Prozesseffizienz maximieren können, indem sie die Programmierung des Roboterarms anpassen. Die Software kann auch verwendet werden, um detaillierte Berichte über die Prozessergebnisse zu erstellen und eine Echtzeit-Überwachung des Prozesses zu ermöglichen. Das Gerät verfügt außerdem über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, die es zu einem der sichersten und zuverlässigsten Nassprozesssysteme machen. Es ist mit einem Strahlenschutzschild, einem hocheffizienten Gasvorhang und einem integrierten Werkzeug ausgestattet, das die Machinen stoppt, wenn ein Sicherheitsparameter verletzt wird. Expedius Asset ist hocheffizient und bietet eine zuverlässige und sichere Umgebung für die Nassverarbeitung. Es ist eines der modernsten und anpassbaren Systeme, die in der Lage ist, den chemischen Nassreinigungsprozess zu optimieren und die gewünschten Ergebnisse zu erzielen.
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