Gebraucht KOKUSAI Vertron III #135994 zu verkaufen

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ID: 135994
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Vertical diffusion furnace / LPCVD / Poly CVD furnace, 8" Process applications: Dry-Ox, Wet-Ox, NO(N2O)-Anneal, Well Diffusion, N2(Ar, H2)-Anneal, PH3-Anneal, Doped/Undoped-Poly-Si, Doped/Undoped-SiGe-Poly, Si3N4, TEOS, HTO Accommodates: 5 wafers simultaneously Automatic filler dummy wafer supply by wafer detection mechanism SEMI standard compliant I/O stage Supports SMIF interface GUI tube controller (CX3000 series) SECS / GEM compatibility 1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III ist ein Diffusionsofen und zugehöriges Zubehör für das Wachstum und die thermische Verarbeitung von Halbleitermaterialien. Vertron III wird von KOKUSAI Electric hergestellt und ist bekannt für seine Leistung und Zuverlässigkeit in F&E und Produktionsanwendungen. KOKUSAI Vertron III ist ein Einzel-Waferofen, der Temperaturen von 300 ° C bis 1100 ° C diffundieren kann. Der Kern der Ausrüstung ist ein Quarzschiefer, der einen automatisierten Graphit-Suszeptor beherbergt, der Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll anpassen kann. Eine langlebige Halogenlampe dient zur Beleuchtung der integrierten Kamera zur Überwachung der Prozessgleichförmigkeit und ist für verschiedene Größen von Substraten einstellbar. Graphit- und SiC-Heizschlangen werden verwendet, um die notwendigen Heiz- und Kühlraten innerhalb der Kammer bereitzustellen. Vertron III verfügt über eine intuitive Controller-Schnittstelle, die eine Reihe von leistungsstarken Bedienungs- und Anzeigefunktionen enthält. Funktionen wie einstellbare Gasflusssteuerung sowie manuelle Pumpensteuerung sind im System enthalten, so dass Benutzer den Prozess anpassen können, um ihre genauen Spezifikationen zu erfüllen. Darüber hinaus können Prozessberichte von bis zu 100 Schritten einfach erstellt werden und bieten einen umfassenden Überblick über jeden Prozessablauf. Die mitgelieferte Software wurde entwickelt, um mehrere Parameter wie Temperatur und Ofendruck zu überwachen und zu steuern, um die Reproduzierbarkeit des Prozesses zu gewährleisten. Benutzer können auch eine Vielzahl von Prozessrezepten konfigurieren, um ihre Prozesse zu automatisieren und für die zukünftige Verwendung zu speichern. Sicherheitsmerkmale sind auch enthalten, wie Übertemperaturschutz, Zwangsabschaltung von Gas und Vakuumpumpen, die automatisch abgeschaltet werden, wenn der Druck innerhalb der Kammer das vorgegebene Niveau überschreitet. Um Qualität und langfristige Leistung zu gewährleisten, ist KOKUSAI Vertron III mit einem Hochdruckgebläse ausgestattet, das die Oxidation der Komponenten reduziert und eine Wasserkühleinheit, die Überhitzung verhindert. Der Ofen und das Zubehör werden von einer KI-gesteuerten automatischen Diagnosemaschine unterstützt, die alle Wartungsprobleme identifiziert und den Benutzer benachrichtigt, wenn eine Wartung erforderlich ist. Es stehen zusätzliche Upgrades zur Verfügung, die die Anzahl der Bearbeitungsschritte erhöhen, die Werkzeuggenauigkeit verbessern und die Wartungszeit verkürzen können. Insgesamt ist Vertron III von KOKUSAI Electric eine ausgezeichnete Wahl, wenn Zuverlässigkeit und Leistung in der Halbleiterproduktion und in F & E-Anwendungen benötigt werden. Mit einer breiten Palette an Verarbeitungstemperaturen und Einstellungen, einer intuitiven Benutzeroberfläche und umfassenden Prozess- und Sicherheitsmerkmalen ist KOKUSAI Vertron III eine ideale Lösung für jeden Diffusionsofenbedarf.
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