Gebraucht ORC HMW-615N-4 #9138204 zu verkaufen

ORC HMW-615N-4 ist eine leistungsstarke und effiziente Belichtungsanlage, die für den Einsatz mit einer Vielzahl von Photolithographieverfahren entwickelt wurde. Dieses System ist mit einer HeNe 515nm Laserquelle ausgestattet, die einen weiten Belichtungsbereich von 0,5 μ m bis 6 μ m ermöglicht. Darüber hinaus ist das Gerät mit bis zu 800 W/cm2 Ausgangsleistung in der Lage und mit Mikrometerwaagen hochpräzise auszurichten. Die Laserquelle der Maschine ist äußerst zuverlässig und präzise und ermöglicht einen hohen Durchsatz bei gleichzeitig außergewöhnlicher Ergebnisqualität. Darüber hinaus ist die Laserquelle mit Wellenlängen- und Bandbreiteneinstellmöglichkeiten ausgestattet, die eine große Flexibilität für Benutzer bieten und den Betrieb des Belichtungswerkzeugs in einer Vielzahl von Photolithographieverfahren ermöglichen. Das Asset ist mit einem aktiven Optikmodul (AOM) ausgestattet, das eine genaue Ausrichtung des Modells und eine präzise Einstellung der Betrachtungsposition des Substrats ermöglicht. Darüber hinaus kann das Gerät entweder mit einer manuellen oder motorisierten Stufe für eine einfache Substratpositionierung ausgestattet werden, die exakt über einen Joystick oder eine Computersteuerung gesteuert wird. Zusätzlich kann die Laserquelle mit Mikrometerwaagen exakt ausgerichtet werden. In Sachen Sicherheit ist ORC HW-615N-4 mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet. Dazu gehören Gegendrucksensoren, ein Notabschalter, eine Not-Aus-Taste, ein Abgasfilter und ein Notkühlventilator zur Vermeidung eines übermäßigen Wärmeaufbaus. In der Anwendung bietet das System ein großes Anwendungsspektrum und eignet sich somit perfekt für photolithographische Prozesse in der Halbleiterindustrie. Es ist außerdem äußerst benutzerfreundlich und ermöglicht eine breite Palette von leicht verständlichen Anpassungsoptionen und Voreinstellungen, die schnell an die Bedürfnisse des Benutzers angepasst werden können. HMW-615N-4 ist eine kompakte und kostengünstige Belichtungseinheit mit einer beeindruckenden Auswahl an Merkmalen, die es ideal für Photolithographie-Prozesse machen. Seine zuverlässige Leistung, einstellbare Einstellungen und Sicherheitsmerkmale machen es zu einer idealen Wahl für Hochdurchsatzprozesse in der Halbleiterindustrie.