Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9185368 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
Verkauft
ID: 9185368
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
High current implanter system, 12" Single wafer Energy option: LEAP Ultra low (0.2-80 keV) Stand-alone system enclosure Signal tower: Front / Back tool Processor: ISPM Processor Isocentric scanner Beamline: Ultralife QX+ ion source G1 Electrode: Graphite Gas panel box: Argon system and gas purge TEM Vacuum: LEYBOLD Turbo pump (3) Cryo pumps SPECTRA Residual gas analyzer (RGA) MMTX Transformer Gas panel: 8-Position: AsH3, PH3, GeF4, BF3, SiF4, CO2, 2-Blank Wafer loader: 4 Station SEMI standard wafer loader Hermos tag reader SEMI E84 OHT PIO Kits Low backside particle vacuum end effectors 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus ist ein hochmoderner Ionenimplantator und Monitor, der Herstellern zu einer Ionenimplantation höchster Qualität verhelfen soll. Dieses Gerät bietet eine hervorragende Leistung durch seine patentierte Ionenlieferung und -steuerung, eine präzise Energieeinstellung und eine Online-Überwachung der Dosisrate. Es bietet auch eine höhere Systemzuverlässigkeit und Robustheit sowie eine verbesserte Leistung gegenüber herkömmlichen Ionenimplantatoren. AMAT Quantum X Plus' Ionenliefereinheit ermöglicht die Lieferung von Ionen auf das Zielsubstrat, die sehr genau gesteuert und präzise gemessen werden. Diese Maschine verwendet ein Quadrupol-Design, mit dem Ionen fokussiert und genau auf das Zielsubstrat gerichtet werden können. Dadurch wird sichergestellt, dass Ionen genau dorthin gerichtet werden, wo sie benötigt werden und die gewünschte Konzentration erreicht wird. Darüber hinaus nutzt APPLIED MATERIALS Quantum X Plus eine einstellbare Energieniveaueinstellung, die sicherstellt, dass die Ionen mit dem erforderlichen Energieniveau in das Zielsubstrat gelangen und eine bessere Kontrolle des Implantationsprozesses ermöglichen. Das Online-Monitoring-Tool von Quantum X Plus ermöglicht eine Echtzeit-Überwachung der Dosisrate und der Substratabdeckung. Dadurch wird sichergestellt, dass der Ionenimplantationsprozess im laufenden Betrieb optimiert und überwacht wird. Es bietet den Herstellern auch nützliche Informationen über die Verwendung verschiedener Implantationsdosen und Energieniveaus, die es ihnen ermöglichen, bei Bedarf notwendige Anpassungen des Implantationsprozesses vorzunehmen. Die Robustheit von AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus wird durch seine überlegene Kühlung weiter erhöht. Der Hersteller hat fortschrittliche Kühler in dem Gerät eingesetzt, die die Temperatur der Anlage niedrig halten sollen, um sicherzustellen, dass die Ionen während der Implantation fokussiert und stabil bleiben. Das Gerät verwendet auch ein einzigartiges aktiv-verschiebendes Modell, das weiterhin die Dosisrate und die Substratabdeckung während des Betriebs überwacht, so dass der Implantationsprozess stabil und genau bleibt. Abschließend ist AMAT Quantum X Plus die nächste Generation von Ionenimplantatoren und Monitoren, die eine verbesserte Leistung, höhere Ausrüstungssicherheit und Robustheit sowie eine präzise Überwachung des Energieniveaus und der Dosisrate bietet. Die verschiedenen Komponenten wie das Ionenliefer- und Steuerungssystem, die einstellbaren Energieniveaus, die Online-Überwachung und die robuste Kühleinheit tragen zu einem überlegenen Ionenimplantationsprozess bei.
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