Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vista 810 #9187815 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Vista 810 ist ein Ionenimplantat- und Überwachungswerkzeug, das für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es ist ein hocheffizientes und genaues Gerät, das zur Implantation von Dotierstoffen in Siliziumsubstrate verwendet wird und eine Echtzeit-Prozesssteuerung bietet. AMAT Vista 810 ist mit einer Drei-Gas-Quelle für Stickstoff (N2), Phosphin (PH3) und Silan (SiH4) Implantation von Substraten ausgestattet. Es verwendet auch eine hochpräzise Strahlstrommessgeräte mit zwei Miniatur Faraday Becher, die Stromauflösung und Empfindlichkeit bis zu 0.5pA erreichen können, die eine präzise Kontrolle der Ionendichte, Winkeldivergenz und seitliche Spreizung ermöglicht. Darüber hinaus kann es aufgrund seines hohen mittleren Strahlstroms von bis zu 50mA mit deutlich höheren Dosisraten als herkömmliche Implantate arbeiten. APPLIED MATERIALS Vista 810 verfügt zudem über ein automatisiertes Wafer-Handling-System und eine integrierte Laser-Scatterometer (LSC) -Einheit, die eine hochgenaue, Echtzeit-Prozesssteuerung bietet. Die LSC-Maschine ermöglicht es Benutzern, den Implantationsprozess hinsichtlich Schichttiefe, Gleichmäßigkeit und Profilgenauigkeit zu überwachen. Darüber hinaus umfasst es ein integriertes, mehrkanaliges digitales Formgebungswerkzeug, das eine präzise Steuerung des Energieniveaus, der Dosis und des Implantatwinkels ermöglicht. Vista 810 verfügt auch über fortgeschrittene analytische Tools wie eine Datenarchivierung und ein Mittel zur Prozessmodellierung, so dass Benutzer die Maschinenleistung genau vorhersagen und überwachen können. Diese umfassende Datenanalyse ermöglicht es Anwendern, Schichttiefe, Gleichmäßigkeit, Profilgenauigkeit und Verschmutzung zu optimieren, während das integrierte modellbasierte Steuerungsmodell eine optimale Maschinenleistung gewährleistet. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Vista 810 ein äußerst anspruchsvoller, zuverlässiger und präziser Ionenimplantator und -monitor, der für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es bietet eine außergewöhnliche Leistung und eine beeindruckende Palette von Prozesskontrollfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, präzise Dotierstoffe zu implantieren und den Implantationsprozess mit Ergebnissen zu überwachen, die sehr reproduzierbar und zuverlässig sind.