Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9174553 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9174553
Ion implanter, 8"
Processor module
Beam line module
Source services module
Processor rack
Heat exchanger / PDU
Mobile PC and desk
Monitor
Control module (VME)
Signal tower
TEM Probe
Mains matching TX
No VESDA smoke detector
No ISO TX
Beamline, controller PSU and assembly:
Pre accelerator / Mag controller
Vacuum controller
Post A controller
Turbo controllers
Focus PSU
A-Mag PSU
Pre A converter PSU
Source mag PSU
Suppression PSU
No Decel PSU
Beam path components, source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy:
Source head type: IHC
Extraction type: Dual bellows
Flight tube
MRS
Pre defining
PFS Type: STD PFS
Gas cabinet (Source services):
Module: SDS / HP
GeF4: HP
BF3: HP
(2) Modules: SDS
Purge module
PSU, Controllers and assembly:
Gas and temperature controller
Filament PSU: XANTREX
Arc PSU
Bias PSU
DPS
Pre A HV stack
Source ISO TX
Vacuum system:
LEYBOLD 1000C Source turbo pump
LEYBOLD 361C MRS Turbo pump
TURBOTRONIK NT20 Turbo pump controller
EDWARDS QDP40 Beam line dry pump
CTI CTI-10 Side cryo pump
CTI CTI-10 Rear cryo pump
Processor PSU controller and assy:
Wheel and components
Spin motor
Gripper
Transfer arm
Clip actuator
Blade
A/B Sensor
Tilt assembly: 0-10
PFS DP Box
Beam stop
Beam profiler
Filament PSU (PFS)
Wafer loader / Mini environment assembly:
Carousel
Indexer
W/L Door
Orientor: Notch
(3) Cassettes / Trays
XR80 Arm servo PSU
XR80 Arm servo controller
Control rack:
DAQPDU
Target system
W/L Controller
W/L Vacuum
Ground PDU
Target system vacuum
Spin / Scan controller
Direct drive interface
Plasma flood chassis
Scan amplifier
Spin amplifier
Spin / Scan PDU
Bleed resistor
MOTECH 80
VME:
PMAC Vac / Atoms
CPU Main board
Loop controller
Energy level: 2-80 keV
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II ist ein Ionenimplantator und -monitor, der speziell für die Herstellung von Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Es ermöglicht eine hochpräzise Implantation von Ionen in das Material, was zu einem sehr gleichmäßigen Dotierungsprofil führt. Es verfügt über eine fortschrittliche variable Strahlquelle, die eine präzise Steuerung der Ionenenergie und Dosierung ermöglicht. Die Ionenquelle ist mit einem hochpräzisen Magnetfeldgenerator zur genauen Strahlablenkung ausgestattet. AMAT xR80 Leap II Ionenmonitor verfügt über eine fortschrittliche Kalibrierausrüstung, die Echtzeit-Feedback verwendet, um feinkörnige Datenqualität zu gewährleisten, zusammen mit automatisierten Sicherheitsprüfungen, um eine einheitliche Implantation über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Es verwendet eine Adaptive OpticsPlatform (AOP), um die Dosis in Echtzeit zu messen und anzupassen, sowie ein Mehrkanal-Photodetektor-Array, um detaillierte Positionsinformationen zu sammeln. Darüber hinaus verfügt AMAT xR80 über ein Smart Beam Alignment System (SBAS), das den manuellen Eingriff überflüssig macht und eine hochtreue Platzierung von Ionen in den Wafer ermöglicht. Der SBAS sorgt auch dafür, dass die Dosis über einen Bereich von Winkeln und Abständen genau eingestellt und eingehalten wird. Dank der robusten Bauweise und der Sensorüberwachungseinheit verfügt das xR80 über eine sehr geringe Ausfallrate. Es ist auch in der Lage, den Wafer innerhalb von 10˚C von absoluten Null zu erwärmen, um sicherzustellen, dass die Ionen an Ort und Stelle unabhängig von den Umgebungsbedingungen bleiben. In Bezug auf die Sicherheit ist APPLIED MATERIALS xR80 Leap II mit Sicherheitsverriegelungen ausgestattet und für die USDOT (U.S. Department of Transportation) -Konformität zertifiziert. Das Gehäuse ist mit antistatischen Inhibitoren beschichtet und entspricht somit den neuesten CE-Standards. Es verfügt auch über ein Sicherheitslogin, so dass nur autorisiertes Personal in der Nähe sein. XR80 Leap II ist ein All-in-One-Ionen-Implantierer und -Monitor, der Benutzern helfen soll, eine saubere, gleichmäßige Dotierung in ihren Halbleiterscheiben zu erreichen. Es verfügt über erweiterte Strahleinstellbarkeit, eine Echtzeit-Datenqualitätskontrollmaschine und eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für jede Labor- oder Fertigungsumgebung ist.
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