Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9174553 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9174553
Ion implanter, 8" Processor module Beam line module Source services module Processor rack Heat exchanger / PDU Mobile PC and desk Monitor Control module (VME) Signal tower TEM Probe Mains matching TX No VESDA smoke detector No ISO TX Beamline, controller PSU and assembly: Pre accelerator / Mag controller Vacuum controller Post A controller Turbo controllers Focus PSU A-Mag PSU Pre A converter PSU Source mag PSU Suppression PSU No Decel PSU Beam path components, source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy: Source head type: IHC Extraction type: Dual bellows Flight tube MRS Pre defining PFS Type: STD PFS Gas cabinet (Source services): Module: SDS / HP GeF4: HP BF3: HP (2) Modules: SDS Purge module PSU, Controllers and assembly: Gas and temperature controller Filament PSU: XANTREX Arc PSU Bias PSU DPS Pre A HV stack Source ISO TX Vacuum system: LEYBOLD 1000C Source turbo pump LEYBOLD 361C MRS Turbo pump TURBOTRONIK NT20 Turbo pump controller EDWARDS QDP40 Beam line dry pump CTI CTI-10 Side cryo pump CTI CTI-10 Rear cryo pump Processor PSU controller and assy: Wheel and components Spin motor Gripper Transfer arm Clip actuator Blade A/B Sensor Tilt assembly: 0-10 PFS DP Box Beam stop Beam profiler Filament PSU (PFS) Wafer loader / Mini environment assembly: Carousel Indexer W/L Door Orientor: Notch (3) Cassettes / Trays XR80 Arm servo PSU XR80 Arm servo controller Control rack: DAQPDU Target system W/L Controller W/L Vacuum Ground PDU Target system vacuum Spin / Scan controller Direct drive interface Plasma flood chassis Scan amplifier Spin amplifier Spin / Scan PDU Bleed resistor MOTECH 80 VME: PMAC Vac / Atoms CPU Main board Loop controller Energy level: 2-80 keV 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II ist ein Ionenimplantator und -monitor, der speziell für die Herstellung von Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Es ermöglicht eine hochpräzise Implantation von Ionen in das Material, was zu einem sehr gleichmäßigen Dotierungsprofil führt. Es verfügt über eine fortschrittliche variable Strahlquelle, die eine präzise Steuerung der Ionenenergie und Dosierung ermöglicht. Die Ionenquelle ist mit einem hochpräzisen Magnetfeldgenerator zur genauen Strahlablenkung ausgestattet. AMAT xR80 Leap II Ionenmonitor verfügt über eine fortschrittliche Kalibrierausrüstung, die Echtzeit-Feedback verwendet, um feinkörnige Datenqualität zu gewährleisten, zusammen mit automatisierten Sicherheitsprüfungen, um eine einheitliche Implantation über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Es verwendet eine Adaptive OpticsPlatform (AOP), um die Dosis in Echtzeit zu messen und anzupassen, sowie ein Mehrkanal-Photodetektor-Array, um detaillierte Positionsinformationen zu sammeln. Darüber hinaus verfügt AMAT xR80 über ein Smart Beam Alignment System (SBAS), das den manuellen Eingriff überflüssig macht und eine hochtreue Platzierung von Ionen in den Wafer ermöglicht. Der SBAS sorgt auch dafür, dass die Dosis über einen Bereich von Winkeln und Abständen genau eingestellt und eingehalten wird. Dank der robusten Bauweise und der Sensorüberwachungseinheit verfügt das xR80 über eine sehr geringe Ausfallrate. Es ist auch in der Lage, den Wafer innerhalb von 10˚C von absoluten Null zu erwärmen, um sicherzustellen, dass die Ionen an Ort und Stelle unabhängig von den Umgebungsbedingungen bleiben. In Bezug auf die Sicherheit ist APPLIED MATERIALS xR80 Leap II mit Sicherheitsverriegelungen ausgestattet und für die USDOT (U.S. Department of Transportation) -Konformität zertifiziert. Das Gehäuse ist mit antistatischen Inhibitoren beschichtet und entspricht somit den neuesten CE-Standards. Es verfügt auch über ein Sicherheitslogin, so dass nur autorisiertes Personal in der Nähe sein. XR80 Leap II ist ein All-in-One-Ionen-Implantierer und -Monitor, der Benutzern helfen soll, eine saubere, gleichmäßige Dotierung in ihren Halbleiterscheiben zu erreichen. Es verfügt über erweiterte Strahleinstellbarkeit, eine Echtzeit-Datenqualitätskontrollmaschine und eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für jede Labor- oder Fertigungsumgebung ist.
Es liegen noch keine Bewertungen vor