Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9197630 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9197630
High current implanter, 8"
P/N: 0240-94906
Main system: xR-Leap
SMIF System: LPT 2200
Hardware configuration: NOVAPURE Effluent gas scrubber EGS-237
Automated control system
MOTOROLA 68040 Processor (VME) with fiber optic isolation
Automatic recipe controlled: 0°-7° (Tilt operation)
IHC Source (Module and control)
Leap II Beamline
HDPFS
Tetrode extraction assembly
Dual extraction PSU
Ion source with G2 extraction
Leap II control chassis and leap II beam stop
Dual range analyzer mag PSU
Leap II source chamber exit aperture
Wafer orienter: Notched wafers
Low metal contamination
Silicon coated spoke process wheel with active wafer cooling
Vacuum load lock compatible with robotic loading systems
Automated cassette - cassette handling with slot integrity ((3) Cassette trays, 8")
(2) Light-pens, 17" SONY color terminals
Closed loop Dl water cooling system
Cryo compressors located remotely
Mains matching transformer
Rear cyro pump lift
Peek scan cover
Arm position sensor kit
Wafer handling and wheel, 8"
4 Position SDS gas box
CT 110" Onboard cryos with CTI 9600 compressors
LEYBOLD Turbo pumps
SECS II Host computer interface
Cooling system: Heat exchanger / Closed loop de-ionized water cooling system
Wafer loader: (3) Carousel paddles
Wafer orients: Batch notch orient
Wheel chamber: (17) Heat sinks, 8"
Control system: Fiber optic communication network
Control module: VME Microprocessor
Plasma flood gun: HDPFS
Beam line: IHC
Gas panel option: SDS Toxic gas modules for AsH3 and BF3
Tilt: Variable implant angle, ±10°
Hard disk: 4 GB
RAM: 128 MB
CIM Linked
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 ist ein Ionenimplantator und Monitor zur Herstellung von Halbleitermaterialien. Es wurde entwickelt, um eine genaue und wiederholbare Ionenimplantation mit einer Vielzahl von Substraten aus Silizium, Germanium und Galliumarsenid zu liefern. AMAT xR80 ist eine hochpräzise Ionenimplantationsanlage mit hohem Durchsatz und hoher Flexibilität für eine Vielzahl von Kundenanwendungen. Der Hauptbestandteil von APPLIED MATERIALS XR 80 ist seine Ionenquelle, die in der Lage ist, sowohl Einstrahl-Implantationen als auch Mehrstrahl-Implantate durchzuführen. Auf diese Weise können Anwender ihren Ionenstrahldurchsatz maximieren und gleichzeitig ein hohes Maß an Genauigkeit und Präzision beibehalten. Darüber hinaus verfügt die Ionenquelle über einen Leistungsbereich, der bis zu 80kV reichen kann. Mit diesem Leistungsbereich kann AMAT XR 80 Ionen mit einem sehr genau definierten Energieniveau implantieren. Das Ionenstrahl-Liefersystem von XR80 wurde entwickelt, um eine hohe Genauigkeit und Präzision zu gewährleisten. Dies geschieht durch automatisierte Strahlausrichtung, Punktgrößenanpassung und Laserstrahlanalysesysteme. Mit diesen Eigenschaften kann APPLIED MATERIALS xR80 eine hochgenaue Punktgröße und Strahlausrichtung beibehalten, unabhängig von den zu implantierenden Substratmaterialien. AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80 enthält auch einen integrierten, empfindlichen Strahlstrommonitor und einen Ionendosismonitor. Dies ermöglicht es Benutzern, ihren Ionenimplantationsprozess in Echtzeit zu überwachen, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. XR 80 kommt auch mit einer ausgeklügelten Sicherheitseinheit ausgestattet, die eine Niedrigenergieabschaltung, Strahlunterbrechung und End-of-Run-Alarme umfasst, um sowohl den Prozess und die Substrate implantiert zu schützen. Dies macht AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterherstellung, da es eine sichere und kontrollierte Umgebung für die Implantation von Ionen bieten kann. Darüber hinaus verfügt AMAT xR80 über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die es Anwendern erleichtert, die Maschine zu programmieren und zu warten. Die Software ermöglicht es Benutzern, schnelle Berechnungen durchzuführen, Rezepte zu optimieren und auf den zugehörigen Datenverlauf zuzugreifen. Damit ist APPLIED MATERIALS XR 80 ein sehr benutzerfreundliches Werkzeug, das sich problemlos in bestehende Fertigungsprozesse integrieren lässt. Alles in allem ist AMAT XR 80 eine ausgezeichnete Auswahl an Ionenimplantaten. Mit seiner hohen Genauigkeit und Flexibilität bietet es Anwendern ein zuverlässiges und sicheres Verfahren zur Herstellung von Halbleitermaterialien. Durch seine intuitive grafische Benutzeroberfläche und seine leistungsstarken Sicherheitsfunktionen gewährleistet es ein hohes Maß an Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit. Seine Fähigkeit, eine Vielzahl von Substraten unterzubringen, macht es zu einem idealen Werkzeug für eine Reihe von Anwendungen.
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