Gebraucht CANON MPA 3000W #9195378 zu verkaufen

CANON MPA 3000W Maske Aligner ist eine hohe Präzision, völlig automatisiertes Oblatenniveau, das Halbleiterherstellungsausrüstung Gestaltet. Es ist in der Lage, Abbildungsfunktionsgrößen von bis zu 1 Mikron abzubilden, was es ideal für die Herstellung hochkomplexer Mikroprozessoren, Anzeigetafeln und anderer Geräte macht. Das einzigartige optische Design des Systems umfasst eine spezialisierte optische Linse, die eine maximale Lichteffizienz ermöglicht und eine feine Merkmalsmesstechnik ermöglicht. CANON MPA-3000 W ist außerordentlich stabil und arbeitet in einem thermischen Betriebsbereich von 10 bis 30 ° C mit einem maximalen Durchsatz von 4.000 Wafern pro Stunde. Um einheitliche Expositionen zu gewährleisten und Rückrutsche und Flare zu reduzieren, sind die Schlüsselkomponenten der MPA- 3000W in ihrer N2-enclosed Imaging Chamber eingeschlossen. Näherungs- und Fokuserkennungssensoren überwachen den Spalt zwischen der Maske und dem Wafer während der Belichtung und ermöglichen eine genaue Ausrichtung. Seine Ionenpumpenvakuumkammer trägt weiter zur Genauigkeit von MPA-3000 W bei, indem im Bereich zwischen Photomaske und Wafer ein Vakuum erzeugt wird. Dieses Vakuum verhindert eine unerwünschte Sauerstoffaufnahme auf der Oberfläche des Wafers und gewährleistet eine gleichmäßige Belichtung über den Wafer. Durch die Optimierung der Mask Aligner Einheit mit ihrem automatischen Kalibriermechanismus kann CANON MPA 3000W geometrische Verzerrungen und Temperaturänderungen während der Belichtung kompensieren. Dies trägt zur Verringerung der Prozessvariation und zur Verbesserung der Prozessstabilität bei. Sein Wafer Changer hilft auch, Rückrutsche und Ausstände zu reduzieren, und sein automatisierter Wafer Transport Mechanism sorgt für eine reibungslose und sichere Handhabung von Wafern. Darüber hinaus gewährleistet die fortschrittliche Röntgenquelle von CANON MPA-3000 W eine konsistente Strahlgröße, die gleichmäßige Belichtungsparameter ermöglicht. Um wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten, verwendet MPA 3000W mehrere erweiterte Funktionen. Seine Single-Shot-Kompression und Uniform Exposure Parameter-Technologien helfen, stehende Welle und Schatteneffekte zu minimieren, während seine fortschrittliche Expositionsquelle eine homogene Dosisverteilung über den Wafer bietet. Der Fehlererkennungsmodus überwacht auch den Belichtungsprozess und ermöglicht eine schnelle und effiziente Erkennung eventueller Probleme. MPA-3000 W ist eine ideale Maschine zur Herstellung hochpräziser Mikroprozessoren, Anzeigetafeln und anderer Geräte. Mit seinen fortschrittlichen optischen und auslösenden Technologien sorgt CANON MPA 3000W für wiederholbare Ergebnisse und konstant hohen Durchsatz.