Gebraucht CANON PLA 501 F #9198627 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein hochmoderner Masken-Aligner, der in der Halbleiterindustrie für photolithographische Anwendungen eingesetzt wird. Es nutzt Schritt und Wiederholung Bildgebung, mit Präzision microstepping, Submikron Auflösung zur Verfügung zu stellen. Der Zeitlupenarbeitstisch des 501F ermöglicht es Benutzern, Photomasken genau auf Halbleiterscheiben zu platzieren und auszurichten. Es ist mit einem 6-Achsen-Bewegungssteuerungssystem ausgestattet, das eine optimale Abtastgenauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet. Darüber hinaus ermöglicht der Hochgeschwindigkeits-Verschlussprojektor eine schnelle und genaue Platzierung von Photomasken. Das 501F hat einen weiten Belichtungsbereich (und unterstützt daher eine Vielzahl von Quellwafern und Photomasken). Es unterstützt auch sowohl Step & Repeat-Bildgebung (mit einem Vollfeldbild) als auch serielle Bildgebung mit variabler Länge (für kleinere, hochdichte Feldbilder). Der Masken-Aligner ist auch in der Lage, hochpräzise reticule Ausrichtung für die genaue Positionierung von Photomasken und Wafern. CANON PLA-501F verfügt über eine breite Palette von Sicherheitsfunktionen, einschließlich automatischer Vakuumverriegelung, die sicherstellt, dass der Bediener während des Maskenausrichtungsprozesses sicher ist. Darüber hinaus ist das Gerät mit mehreren Notschaltern ausgestattet, damit der Bediener im Notfall die Stromversorgung des Systems abschalten kann. Das 501F verfügt auch über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die die Erstellung und Änderung von Maskenlayoutdateien ermöglicht. Mit dem intuitiven Softwareprogramm können Anwender schnell und einfach benutzerdefinierte Maskenparameter wie Feldgröße, Belichtungsstufen und Fokusbereich definieren. Dies hilft dabei, die Leistung zu optimieren und die Produktivität zu steigern. Insgesamt ist PLA 501F ein hochmoderner Masken-Aligner, der eine breite Palette von Funktionen bietet, die es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterindustrie machen. Es bietet überlegene Scangenauigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen. Das intuitive Softwareprogramm vereinfacht die Bedienung und erhöht die Produktivität. Letztlich bietet die 501F eine optimierte Lösung für photolithographische Anwendungen.