Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MJB-21 #9167004 zu verkaufen

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ID: 9167004
Double sided mask aligner (2) 350 Watt lamp houses UV 400 Optics (2) Internal sensors: 65nm / 405nm SUSS Split-field bottom side microscope: (2) 150 Watts fiber optic microscope illuminators (2) 10x Objectives (2) 10x Eyepieces Proximity Soft contact capable Soft contact chuck (2) Mask holders Manuals.
KARL RUß/MICROTEC MJB-21 ist ein robuster und zuverlässiger Maskenausrichter, der zur genauen Positionierung und Ausrichtung photolithographisch erzeugter Maskenmuster auf Substrate für die Halbleiterbauelementherstellung verwendet wird. Es hat ein flexibles Design, das Substrate verschiedener Größen und Formen aufnehmen kann. MICROTEC MJB-21 produziert hochwertige Bilder mit einer Auflösung von 0,25 μ m und einer Präzision von 2 μ m, sodass Entwickler komplexe Funktionen für die Entwicklung von Hochleistungsgeräten entwickeln können. Der Maskenausrichter verwendet eine 6-Zoll-unabhängige Linsenausrüstung und eine stufenlose ρ -z-Stufe, um die Fotoausrichtung durch präzise X-, Y- und Z-Achsbewegungen genau zu steuern. Ein hochauflösender LCD-Bildschirm ermöglicht es Benutzern, die Ausrichtung des Maskenmusters vor der Belichtung zu überprüfen und zu korrigieren. Das System enthält auch eine integrierte Software mit einer erweiterten Ausrichtungsfunktion zur Optimierung der Bildplatzierung. Die robuste Konstruktion von KARL RUß MJB 21 gewährleistet eine zuverlässige Lagerung und den Transport des Maskenausrichters für Produktionsumgebungen, bei denen langfristige Präzision und Wiederholbarkeit unerlässlich sind. Das Gerät verwendet eine stabile Bedienfeldschnittstelle, um Benutzern die Auswahl eines für den Geräteherstellungsprozess zugeschnittenen Belichtungsprofils zu ermöglichen, und Bilddaten werden über einen CMOS-Sensor zertifiziert. Darüber hinaus bestehen Sicherheitsmaßnahmen über einen Abdeckschirm, der eine Verschmutzung der Linsenmaschine verhindert. MICROTEC MJB 21 ist in der Lage, Bauelementmaße von < 10 μ m und eine Wiederholbarkeit von besser als 1 μ m zu erzeugen, was es ideal für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen macht.
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