Gebraucht GCA 3600F #9016977 zu verkaufen

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GCA 3600F
Verkauft
ID: 9016977
Pattern generator.
GCA 3600F ist eine hochmoderne Maskengenerations- und Produktionsanlage, die für komplexe Maskenbauanforderungen konzipiert ist. Das System ist in der Lage, Feinlinienbildmuster mit Genauigkeit und Präzision zu erzeugen. Das Gerät verfügt über ein Einzelbelichtungsverfahren, das Wiederholbarkeit und Stabilität für eine sehr komplizierte Bildgestaltung bietet. Es enthält eine SML-basierte Plattform (Semiconductor Machine Language) mit einem sehr vielseitigen Raster Image Processor (RIP) zur effizienten Steuerung von Bildgebung und Nachbearbeitung. Die Maschine ist mit fortschrittlicher Laserabtastung, Strahllieferung und Bildplatzierungsmechanik integriert. Das Werkzeug kann eine breite Palette von Maskenmustern erzeugen und erzeugen, von einfachen Linienmustern bis hin zu hochentwickelten Arrays von Formen und Figuren. Es ermöglicht es Benutzern, in einstufige Bildaufnahmen zu zerlegen, was die Erstellung komplexer und fein detaillierter Bilder ermöglicht. Das Asset verfügt über eine mehrstufige Kalibrier- und Verifizierungsplattform, um sicherzustellen, dass die erzeugten Bilder den höchsten Standards an Genauigkeit und Konsistenz entsprechen. 3600F verfügt auch über die Fähigkeit zum Vertrag (A2C) und den Xeikon Photo Input Processor (XPT). Die A2C ermöglicht die Manipulation des Bildtons und Kontrast, um seine Klarheit und Definition zu optimieren. Die XPT-Technologie verwendet fortschrittliche Kantenerkennungsalgorithmen, um Fotos und andere zweidimensionale Bilder in scharfe Maskenmuster umzuwandeln. Das Modell ist mit einer ergonomischen Benutzerkonsole und intuitiv konzipierter Software ausgestattet, die eine benutzerfreundliche und einfache Bedienung ermöglicht. Darüber hinaus integriert die Anlage eine breite Palette von messtechnischen Werkzeugen und Testsystemen für eine überlegene und effiziente Qualitätskontrolle. GCA 3600F ist ein leistungsfähiges, vielseitiges und zuverlässiges System zur Erzeugung und Herstellung von Masken, das die anspruchsvollsten Anforderungen an die Mustererzeugung und -herstellung erfüllt. Es bietet Anwendern eine breite Palette von Fähigkeiten für eine sehr detaillierte Musterproduktion sowie eine Vielzahl weiterer Funktionen für eine genaue und effiziente Produktion.
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