Gebraucht LEITZ Ergolux #61327 zu verkaufen

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ID: 61327
BF / DF Microscope Modulopak vertical illuminator 6"x 6" X-Y mechanical stage with glass plate Ergonomic tilting trinocular head 12V, 100W lamphouse with socket and bulb Pair of 10x WF eye pieces Motorized 5 place nose piece NPL 5x, 10x, 20x, 50x, 100x BF / DF objectives included.
LEITZ Ergolux Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein spezialisiertes System zur Inspektion und Analyse der Oberflächen von Halbleitermasken und Wafern. Es umfasst fortschrittliche Muster-Matching-Algorithmen und modernste Optik-Technologie, um eine automatisierte Qualitätskontrolle und Prozessoptimierung bereitzustellen und gleichzeitig eine umfassende Fehlererkennung und -analyse zu ermöglichen. Ergolux Mask und Wafer Inspection Unit besteht aus drei Komponenten; eine Bewegungssteuereinheit, einen Bilddetektor und eine Sehmaschine. Die Bewegungssteuerung ist in der Lage, die Bewegung der Bauteile während des Inspektionsprozesses genau zu steuern. Es kann auch mehrere Sichtfelder erkennen, so dass eine vollständige Abdeckung der Oberfläche möglich ist. Der Bilddetektor verwendet eine eindimensionale Anordnung von Detektoren, um hochauflösende Bilder von bis zu 5 Punkten gleichzeitig zu erfassen. Dies ermöglicht die Überprüfung komplexer Muster und die Auswertung von über die gesamte Waferoberfläche vorhandenen Fehlern. Der Detektor ist auch in der Lage, Oberflächenmerkmale wie Kornstruktur, isotropes Ätzen und Oberflächenmorphologie zu messen. Das Vision-Tool ist ein fortschrittliches optisches Asset, das 4x Dunkelfeldoptik verwendet, um die Oberfläche des Wafers zu durchdringen und potenzielle Fehler zu erkennen. Es enthält eine beträchtliche Menge genauer Referenzdaten, die für die Fehlererkennung und -dimensionierung verwendet werden. Diese Daten werden dann mit der Ausgabe des Bilddetektors kombiniert, um eine umfassende Aufzeichnung der Eigenschaften des Wafers zu erstellen. LEITZ Ergolux Masken- und Wafer-Inspektionsmodell ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur automatisierten Inspektion und Prozessoptimierung. Seine fortschrittliche Optik-Technologie und innovative Bildverarbeitungsalgorithmen ermöglichen die genaue Identifizierung und Charakterisierung von Waferdefekten. Durch das Lokalisieren von Fehlern mit beispielloser Präzision gewährleistet es die Integrität und Zuverlässigkeit eines Produkts vor der Freigabe. Dadurch wird sichergestellt, dass das Endprodukt von höchster Qualität ist und alle industriellen Anforderungen erfüllt.
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