Gebraucht VEECO Gen II #9073487 zu verkaufen

ID: 9073487
Wafergröße: 3"
MBE Growth system, 3" (10) ports for dopants Process: Growth of arsenides and phosphides Liquid nitrogen Phase separator AlGaAs Laser Room temperature: 6°C - 10°C Vacuum: Growth chamber (GC) Triode ion pump: 400 l/sec Buffer chamber (BC) Triode ion pump: 200 l/sec (2) TSP Controllers Loadlock chamber (LC) (100) CTI Cryotor cryopumps (2) Vacshorption pumps Ventury pump In situ and calibration tools: RHEED System: 0-10 keV RHEED Oscillation growth rate calibration system Cells: EPI Valved cracker with valved controller Cable Riber three zone P Valved cracker with valve controller Power supply (4) 400g Sumo cells Ga, In, Al (2) Dopont cells Dual electronic equipment rack, 19" (12) Solenson DC power supplies Riber P valved cracker 2704 Dual channel Eurotherm controller Substrate and heated station (2) DC Power supplies Substrate heater Heated station Other tools: Ircon optical pyrometer Growth chamber and beam flux (2) GP Ion gauge controllers Buffer and loadlock chamber RHEED Power supply RGA Power supply unit TEK Scope Riber P cracker power supply Pyrometer port heated viewport Substrate manipulator controller Loadlock chamber Lamp power and controller AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Chart record mounted RHEED Oscillation recording Trolley for substrate handling.
VARIAN/VEECO GEN II ist eine Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Ausrüstung, die zur Herstellung dünner Filme und Materialschichten für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet wird. Das System besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Hauptkammer, einer Wachstumskammer, einer Effusionszelle, Pumpen und einem computergesteuerten Monitor. Die Hauptkammer beherbergt die Effusionszelle, die die Quellen des zu verdampfenden Materials enthält. Die Hauptkammer ist vakuumversiegelt und das Dünnschichtwachstum findet innerhalb der Wachstumskammer statt. Die Effusionszelle kann auf Temperaturen von bis zu 1000 ° C erwärmt werden, was die Verdampfung des Materials ermöglicht. Die Kammerwände werden erwärmt, um gleichmäßige Temperaturen in der gesamten MBE-Wachstumskammer zu gewährleisten. VEECO GEN II ist in der Lage, dünne Filme und Schichten mit Dicken im Bereich von 3-200nm zu produzieren. Das Gerät ist mit drei Effusionszellen ausgestattet und alle Zellen sind mit einer turbomolekularen Turbomolekularpumpe verbunden. Damit erreicht die Maschine einen Druck von 1,0x10-10 Torr in der Hauptkammer, der ideal für Dünnschichtwachstum ist. Die Zellen können auch mit einer äußeren Prallwand ausgestattet werden, um den Neutralfluss während der Filmabscheidung zu reduzieren. Neben der Fähigkeit, dünne Filme und Schichten herzustellen, umfasst das Werkzeug auch einen computergesteuerten Monitor. Dieser Monitor wird verwendet, um die Temperatur und den Druck innerhalb der Kammer zu steuern und den Wachstumsprozess zu überwachen. Die Anlage umfasst auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie Vakuumdichtungen und Thermoelemente zur Überwachung der Kammertemperatur. VARIAN GEN II ist ein ideales Modell zur Herstellung von dünnen Folien und Schichten für eine Vielzahl von Anwendungen. Das Gerät beinhaltet Funktionen, die für ein großes Dünnschichtwachstum erforderlich sind, und der computergesteuerte Monitor des Systems ermöglicht eine präzise Kontrolle des Dünnschichtwachstumsprozesses. Das Gerät ist auch modular aufgebaut, so dass Benutzer die Anzahl der Effusionszellen nach Bedarf erweitern oder reduzieren können. Mit seinem robusten Design und seinen fortschrittlichen Eigenschaften ist GEN II eine ausgezeichnete Wahl für Dünnschichtforscher und Entwickler.
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