Gebraucht VEECO Gen II #9207238 zu verkaufen

ID: 9207238
Wafergröße: 3"
MBE System, 3" For III / V growth Sources: Flange, 4.5" (8) Sources: (2) Ga (2) In Al Si Be Valved as cracker RHEED / QMS (2) Ion pumps Growth chamber: 400 Liters Prep chamber: 220 Liters Cryo pump for growth chamber Turbo pump and mechanical pump for load lock Bake out panels AMBER Nitrogen / Oxygen RF plasma source Power supplies Temperature controller Servo motor control Sample manipulator with control system, 3" Sample holders Clean chamber Crucible size: 30 to 60 cc CTI8 Cryo pump Turbo pump size: 140 Liter per second Substrate heater: 1000°C (3) Ion gauges Pyrometer PC (5) Sample holders.
Eine VARIAN/VEECO GEN II ist eine ausgeklügelte Form der Molekularstrahl-Epitaxie (MBE), die für fortgeschrittene Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet der Halbleitermaterialwissenschaften entwickelt wurde. Diese Maschine ermöglicht eine präzise Steuerung des Wachstums von nanometerskalierten Materialschichten von einzelnen Atomen bis hin zu komplexen Molekülen. Das System ist in der Lage, mehratomige Schicht-für-Schicht-Wachstumsprozesse mit ultimativer Gleichmäßigkeit und Kontrollierbarkeit durchzuführen. Herzstück der Einheit ist die MBE-Zelle, die in zwei getrennte Kammern unterteilt ist. Die erste Kammer ist der Probenhalter oder Substrathalter, der so ausgelegt ist, dass er eine Vielzahl von Basissubstrattypen, einschließlich Wafern, Substraten, Epitaxieschichten und anderen Materialien, sicher aufnimmt. Der Probenhalter wird dann auf die gewünschte Temperatur erhitzt und mit einem Thermoelement überwacht. Innerhalb der MBE-Zelle befindet sich das Substrat in einer Ultrahochvakuumkammer und wird von mehreren Noppen und Schaltern verwaltet, die zur Einstellung von Parametern wie Druck, Temperatur und Durchflussrate verwendet werden. Die zweite Kammer enthält mehrere Gasquellen, aus denen die verschiedenen Materialien für den Epitaxieprozess erzeugt werden. Zu diesen Quellen können elementare Quellen wie Arsen und Phosphor sowie molekulare Quellen komplexerer Moleküle wie Wasserstoffselenid gehören. Die Gase werden dann zur Probenhalterkammer transportiert, üblicherweise über einen Effusionsheizer, wo sie einem Substrat ausgesetzt werden und zur Erzeugung von Verbundschichten verwendet werden können. Die Maschine enthält auch mehrere MBE-Steuerungssubsysteme, die diese Prozesse verwalten, wie die Thermo- und Druckregelsysteme, die HF-Scanstufe und das automatische Tuning and Calibration (ATC) -Werkzeug. Das ATC liefert umfassende Feedback-Informationen über die Wachstumsprozesse und stellt sicher, dass die richtigen Bedingungen für jede Schicht der Abscheidung festgelegt werden. Insgesamt bietet VEECO GEN II ein umfassendes und präzises Werkzeug für die fortgeschrittene Forschung und Entwicklung von Halbleitermaterialsystemen. Das Modell bietet eine überlegene Steuerung einer Vielzahl von Parametern, die ein kontrolliertes Wachstum komplexer Materialien auf Nanoskala ermöglichen. Mit den fortschrittlichen Eigenschaften dieser Ausrüstung sind Forscher in der Lage, kundenspezifische und präzise Nanostrukturen zu erstellen, die in einer Vielzahl von Anwendungen und Forschungsbereichen eingesetzt werden können.
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