Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9132537 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 ist ein spezialisiertes Photolacksystem für die Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Es ist eine fortgesetzte Innovation auf dem Gebiet der Photoresist-Technologie. Diese Einheit wurde entwickelt, um die Genauigkeit und den Durchsatz des Photolackprozesses zu optimieren und Waferausrichtungsfehler drastisch zu reduzieren. Kernkomponente dieser Maschine ist ihr Spinnturm, der dem Werkzeug hohe Geschwindigkeiten und Genauigkeit ermöglicht. Der Tower ist mit einer fortschrittlichen CCD-Kamera ausgestattet, die Fotolack präzise ausrichtet und gleichmäßig über den Wafer verteilt. Ein digitales Filtermodell ist ebenfalls enthalten, um optimale Waferbearbeitungsergebnisse zu liefern. ASSI SV-702 ist hocheffizient, mit einer maximalen Drehzahl von 3.500 U/min. Es ist in der Lage, die Bewegung automatisch zu stoppen, wenn der Fotolack die Kante des Wafers erreicht, um sicherzustellen, dass die Schicht des Photolacks, der auf dem Wafer aufgebracht ist, gleichmäßig und ohne Lücken ist. Dadurch können die Wafer eine höhere Reinheit und Genauigkeit erzielen. Zusätzlich ist der Schleuderturm mit einem digitalen Temperatursensor und einem Heiz-/Kühlelement ausgestattet, mit dem die Temperatur des Wafers vor und während seiner Bearbeitung präzise gesteuert werden kann. ADVANCED SPIN Equipment INC SV-702 beschleunigt auch den Reinigungsprozess von Photolack aus dem Wafer. Dieses System verwendet gut entwickelte Transfermechanismen, die den Zeitaufwand für die Reinigung erheblich reduzieren. Der Reinigungsmechanismus ist auch in der Lage, gleichzeitig Photolack aus dem Wafer zu spinnen und zu sprühen, was den Reinigungsvorgang weiter beschleunigt. Darüber hinaus umfasst die Reinigungsmechanik einen chemischen Verdünnungsmodus und einen Halbleiterresisttrockner, die eine schnelle Trocknung der Resistschicht nach Beendigung des Reinigungsprozesses ermöglichen. SV-702 ist eine hochmoderne Photoresists-Einheit, die eine unübertroffene Verarbeitungsgenauigkeit und Geschwindigkeit für Halbleiterwafer bietet. Es verfügt über erweiterte Funktionen wie eine optische CCD-Ausrichtmaschine, einen digitalen Temperatursensor und einen Resisttrockner. Diese Merkmale sollen optimale Waferbearbeitungsergebnisse liefern und Waferausrichtungsfehler drastisch reduzieren. Dieses Werkzeug ist eine wertvolle Ergänzung zu jeder Halbleiterproduktionsanlage.