Gebraucht SEMIX / TOK SG-2 #167184 zu verkaufen

SEMIX / TOK SG-2
ID: 167184
SOG silicon dioxide coating machine Model Number: OLD-TR-6142TRUDFD-TM Missing parts.
SEMIX/TOK SG-2 ist eine von Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. (TOK). Es ist ein hocheffizientes und präzises System, das speziell für die Bilderzeugung entwickelt wurde und bei der Herstellung von Halbleitern, Leiterplatten und MEMS-Komponenten verwendet wird. TOK SG-2 besteht aus zwei primären Komponenten: einem Photolack und einem Substrat. Der Photolack ist ein lichtempfindliches flüssiges Material, das auf einem Halbleiter- oder Leiterplattensubstrat aufgebracht ist. Es enthält ein lichtempfindliches chemisches Bad, das auf sichtbares oder ultraviolettes Licht reagiert und ein Bild bildet, wie es dem Licht ausgesetzt ist. Die chemische Zusammensetzung des Photoresistmaterials ist derart, daß seine Belichtung mit Licht entweder abnimmt oder seinen elektrischen Widerstand erhöht und somit ein Muster auf dem Substrat erzeugt. Der Photolack wird dann einer aktivierenden Lichtquelle, wie Laserstrahlung, UV-Licht oder Röntgenstrahlung, ausgesetzt und auf den Halbleiter- oder Leiterplattensubstrat projiziert. Durch selektives Belichten der aktivierenden Lichtquelle mit verschiedenen Teilen des Photolackmaterials werden Muster auf dem Substrat erzeugt. Anschließend folgt ein chemischer Nachbearbeitungsschritt zur weiteren Verfeinerung des Musters. SEMIX SG-2 wurde entwickelt, um präzise und qualitativ hochwertige Bilder mit einer minimalen Anzahl von Ätzschritten zu erzeugen. Die Einheit ist in der Lage, kleine, komplizierte Muster bei hoher Auflösung mit einer minimalen Anzahl von Überlappungsschritten zu erzeugen. Es ist auch hocheffizient, da die Photolackmaschine nur wenige Minuten zum Einrichten benötigt und in kurzer Zeit zahlreiche Bilder erzeugen kann. SG-2 Werkzeug ist hochpräzise und effizient bei der Herstellung von Bildern und Mustern für eine Vielzahl von Anwendungen. Sie eignet sich insbesondere zur Herstellung von Halbleitern, Leiterplatten und MEMS-Bauelementen. Das photoresist Asset bietet hochauflösende Drucke zu einem Bruchteil der Kosten herkömmlicher Ätzprozesse. Darüber hinaus machen die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Prozesses es ideal für Prototyping, Produktion oder kleine Anwendungen.
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