Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #160121 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die überlegene Sauberkeit und hohe Produktivität bietet. Dieses System ist speziell für Photolithographie- und Ätzprozesse konzipiert. Es verwendet eine spezielle Software und einen leistungsstarken Laser, um präzise Fotomasken für eine präzise und kontrollierte Belichtung von Fotoresistenzen zu erstellen. Diese Einheit ist ideal für feinere Funktionsgrößen und Anwendungen mit hoher Genauigkeit. TEL Clean Track Mark 7 verwendet eine wasserlösliche Stoppschicht auf der Oberfläche und dann einen hochpräzisen Laser, um die Fotomaske zu bilden. Mit dem Laserstrahl werden exakt Öffnungen der gewünschten Größe und Form auf ein lichtempfindliches Material erzeugt. Diese Technologie ermöglicht Funktionsgrößen von 50nm bis 100nm und enge Toleranz Feature Genauigkeit. Die Maschine hat auch hohe Frequenz und Gleichmäßigkeit der Ätzraten für dicke Resists oder mehrere Foto Resists. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 verfügt über einen fortschrittlichen Controller, der die Qualität der Fotomaskenbildung überwacht und Feedback liefert, um eine präzise und automatische Maskenentwicklung zu ermöglichen. Der Controller verfügt außerdem über eine Qualitätssicherungsfunktion, die den Benutzer benachrichtigt, wenn ein Fehler erkannt wird. Dies ermöglicht schnelle und genaue Korrekturmaßnahmen. Das Werkzeug ist sehr zuverlässig und kann kontinuierlich ohne Unterbrechung laufen. Es hat auch einen automatisierten Reinigungszyklus, der die Fotomaske regelmäßig reinigt und Rückstände verhindert, die letztlich eine optimale Leistung verhindern können. Das Asset hat auch einen geringen Stromverbrauch und einen geringen Substratschaden. Abschließend ist Clean Track Mark 7 ein Präzisions-Photoresist-Modell, das für Photolithographie und Ätzprozesse entwickelt wurde. Das Gerät verfügt über einen fortschrittlichen Controller, der die Qualität der Fotomaskenbildung überwacht und Feedback für eine optimale Programmierung liefert. Es hat hohe Frequenz und Gleichmäßigkeit der Ätzraten für dicke Resists oder mehrere Foto Resists. Das System verfügt zudem über einen automatisierten Reinigungszyklus und einen geringen Stromverbrauch. All diese Eigenschaften machen diese Photolackeinheit ideal für empfindliche oder hochgenaue Anwendungen.