Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #118737 zu verkaufen

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ID: 118737
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2010
Track system, 8" Left to right orientation 4 cassette stage, 2 spin Main controller: NEC FC-9801BX computer C/S robot type: Ceramic pincette Main robot type: 2 Finger wafer transfer main robot Indexer: 4 cassette carrier station 25 wafer slots cassette Spin: Stream nozzle thinner dispense Stream nozzle top rinse dispense Spin servo motor Digital vacuum sensors and interlocked for spin unit 2010 vintage As-is, where-is.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment ist eine umfassende Photoresist-Beschichtungs- und Entwicklungslösung für fortschrittliche Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Das System besteht aus vier verschiedenen Komponenten, von denen jede zusammenarbeitet, um erstklassige Prozesskontrolle, Genauigkeit und Präzision zu bieten. TEL MARK7 Photoresist Coating Module ist die erste Komponente der Einheit. Es ermöglicht dank seiner zwei unabhängigen Beschichtungsköpfe und der leistungsstarken Pumpmaschine eine präzise, wiederholbare und gleichmäßige Beschichtung dünner Resistfolien. Seine präzise Kraft-Vorschub-Dispergierwalze sorgt für eine verbesserte Beschichtungsleistung und ermöglicht die Beschichtung mit hochmolekularen Resists. TEL PMS-003 Intelligent Dispensing Unit optimiert die Leistung des Beschichtungsmoduls Markierung 7 weiter. Die zweite Komponente des Werkzeugs ist TOKYO ELECTRON Pattern Generating Module. Dieses Modul nutzt eine hochmoderne Direct-Write-Strahllenkung, die es ermöglicht, eine Vielzahl von Musterformen und -größen zu erzeugen. Das Modul hat auch die zusätzliche Bequemlichkeit, die Datenübertragung von einem Resist-Asset zu einem anderen zu ermöglichen, so dass Benutzer problemlos komplexe Muster über mehrere Projekte hinweg erstellen können. Die dritte und vierte Komponente des TOKYO ELECTRON MARK-7 Modells verbinden sich zu einer automatisierten Resistentwicklung. TOKYO ELECTRON MARK7 Resist Development/Inspection Unit bietet eine Live-Zeit-Abbildung von Resistmustern, während sie von einem integrierten visuellen Inspektionsmodul gebildet und gescannt werden. Das Inspektionsmodul kann zur automatischen Erkennung von Resistmusterfehlern verwendet werden und ermöglicht sofortige Korrekturmaßnahmen. Darüber hinaus ist die Resist Development/Inspection Unit mit einer Ultraschall-basierten Reinigungsausrüstung ausgestattet, die die Genauigkeit und Klarheit der Resistmustervervollständigung erhöht. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist System ein leistungsfähiges Werkzeug für überlegene Prozesskontrolle, Genauigkeit und Präzision. Seine vier Komponenten arbeiten zusammen, um beispiellose Photoresist-Beschichtungs- und Entwicklungslösungen bereitzustellen, die fortschrittliche Halbleiteranwendungen ermöglichen.
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